10:31:42第七章核磁共振波谱分析法一、核磁共振与化学位移nuclearmagneticresonanceandchemicalshift二、影响化学位移的因素factorsinfluencedchemicalshift第二节核磁共振与化学位移nuclearmagneticresonancespectroscopynuclearmagneticresonanceandchemicalshift一、核磁共振与化学位移1.屏蔽作用与化学位移理想化的、裸露的氢核;满足共振条件:产生单一的吸收峰;实际上,氢核受周围不断运动着的电子影响。在外磁场作用下,运动着的电子产生相对于外磁场方向的感应磁场,起到屏蔽作用,使氢核实际受到的外磁场作用减小:B=(1-)B0:屏蔽常数。越大,屏蔽效应越大。0=[/(2)](1-)B0屏蔽的存在,共振需更强的外磁场(相对于裸露的氢核)。π2Bγν0010:31:42化学位移:由于屏蔽作用的存在,氢核产生共振需要更大的外磁场强度(相对于裸露的氢核),来抵消屏蔽影响。在有机化合物中,各种氢核周围的电子云密度不同(结构中不同位置)共振频率有差异,即引起共振吸收峰的位移,这种现象称为化学位移。π2)Bσ1(γν0010:31:422.化学位移的表示方法(1)位移的标准:因为没有完全裸露的氢核,故没有绝对的标准。相对标准:四甲基硅烷Si(CH3)4(TMS)(内标)位移常数TMS=0(2)为什么用TMS作为基准?a.12个氢处于完全相同的化学环境,只产生一个尖峰b.屏蔽强烈,位移最大。与有机化合物中的质子峰不重迭;c.化学惰性;易溶于有机溶剂;沸点低,易回收。10:31:42位移的表示方法与裸露的氢核相比,TMS的化学位移最大,但规定TMS=0,其他种类氢核的位移为负值,负号不加。小,屏蔽强,共振需要的磁场强度大,在高场出现,图右侧;大,屏蔽弱,共振需要的磁场强度小,在低场出现,图左侧;)ppm(ν10)νν(δTMS6TMS样10:31:42二、影响化学位移的因素1.电负性--去屏蔽效应与质子相连元素的电负性越强,吸电子作用越强,质子周围的电子云密度减弱,屏蔽作用弱,信号峰在低场出现。-CH3,=1.6~2.0,高场;-CH2I,=3.0~3.5,-O-H,-C-H,大小低场高场10:31:42电负性对化学位移的影响H3CClH2CClHCClClClCl3.055.337..24CH3CH3CH3CH3FClBrI4.263.052.682.60碳杂化轨道电负性:SPSP2SP3H3CBr2.68H3CH2CCH3(CH2)2CH3(CH2)3BrBrBr1.651.040.90OCH3NCH3CCH33.53.02.53.42-4.022.12-3.100.77-1.8810:31:42影响化学位移的因素2、磁各向异性效应—在分子中,质子与某一官能团的空间关系,影响质子的化学位移,这种效应称为磁各向异性效应。与外磁场方向一致时,去屏蔽。反之,则增加屏蔽作用。10:31:42影响化学位移的因素3价电子产生诱导磁场,质子位于其磁力线上,与外磁场方向一致,去屏蔽。10:31:42影响化学位移的因素4苯环上的6个电子产生较强的诱导磁场,质子位于其磁力线上,与外磁场方向一致,去屏蔽。10:31:422.氢键效应形成氢键后1H核屏蔽作用减少,氢键属于去屏蔽效应。H3CH2COHCH2CH3OH5.72ppm3.7ppmCCl4OHOH7.45ppm4.37ppmCCl4OHOCH310:31:423.空间效应HCOH3CCOCH3HOHHHHOδ3.75δ1.77δ2.31δ3.5510:31:42空间效应Ha=3.92ppmHb=3.55ppmHc=0.88ppmHa=4.68ppmHb=2.40ppmHc=1.10ppm去屏蔽效应HCHbHaOHHCHbHaHOδδδδδδ0.883.553.921.104.682.40(A)(B)10:31:424.各类有机化合物的化学位移①饱和烃-CH3:CH3=0.791.10ppm-CH2:CH2=0.981.54ppm-CH:CH=CH3+(0.50.6)ppmOCH3NCH3CCH3CCH3OCCH3H=3.2~4.0ppmH=2.2~3.2ppmH=1.8ppmH=2.1ppmH=2~3ppm10:31:42各类有机化合物的化学位移②烯烃端烯质子:H=4.8~5.0ppm内烯质子:H=5.1~5.7ppm与烯基,芳基共轭:H=4~7ppm③芳香烃芳烃质子:H=6.5~8.0ppm供电子基团取代-OR,-NR2时:H=6.5~7.0ppm吸电子基团取代-COCH3,-CN,-NO2时:H=7.2~8.0ppm10:31:42各类有机化合物的化学位移-COOH:H=10~13ppm-OH:(醇)H=1.0~6.0ppm(酚)H=4~12ppm-NH2:(脂肪)H=0.4~3.5ppm(芳香)H=2.9~4.8ppm(酰胺)H=9.0~10.2ppm-CHO:H=9~10ppm10:31:42常见结构单元化学位移范围0123456789101112131415化学位移HCCHCOHCOOHH3CO~3.7H3CN~3.0H3CC~2.1OH3CC~1.8CH3CC~0.9δ(ppm)