Array设备介绍Track

ChangelifewithheartB4ProjectConfidentialB4ArrayTrack设备介绍B4ArrayTeam31.Dec.2011B4ProjectConfidential1ContentsList1.概述(Track&Exp)2.ArrayLayout_Photo3.TrackLayout4.TrackM/CIntroduce4-1Cleaner4-2Coater4-3Bake4-4Develop5.TrackM/C节水措施6.Developer-浓度控制系统及回收装置B4ProjectConfidential1.什么是光刻(Photo)?Coat&ExposureDevelopmentGlass(AfterThinFilm)TFTPanel光刻就是以光刻胶为材料在玻璃基板表面形成具有TFT结构的pattern，这个pattern的作用就是保护在它下面薄膜，使其在下一道刻蚀工序中不被刻蚀掉，从而最终在薄膜上形成我们所需要的TFTpattern.1.概述(Track&Exp)B4ProjectConfidential(1)涂胶(Coater)：将光刻胶通过涂胶这个步骤，均匀的涂在玻璃基板上,此过程通过Track机的Coater单元来实现2.如何实现？三个主要步骤：涂胶Coater，曝光Exposure，显影DeveloperCoaterThinFilm1.概述(Track&Exp)B4ProjectConfidential(2)曝光Exposure通过Mask的遮光作用，有选择性的将光刻胶感光，此过程通过曝光机来实现Exposuremask1.概述(Track&Exp)B4ProjectConfidential（3）显影Developer通过化学作用将感光的光刻胶溶解去掉，此过程通过Track机的Develop单元来实现DevelopEtch1.概述(Track&Exp)B4ProjectConfidentialLinear-Coater1.概述(Track&Exp)B4ProjectConfidentialExposure&Developer1.概述(Track&Exp)B4ProjectConfidential光刻流程图：1.概述(Track&Exp)B4Process無E/ETurnTableB4ProjectConfidential3.1光刻工序在整个阵列工序中起着承上启下的作用，它和其他两个阵列工序一样，光刻工序使用4+1MASK工艺处理玻璃基板，具体的说，就是将最终要在玻璃基板上形成的TFTpattern分成1stITO，GATE，SDT，VIA,2ndITO3.2每次曝光形成一个层，共4+1层，最后叠加形成最终的TFTpattern。3.光刻与整个阵列的关系PhotoEtchingThinfilmTFT阵列基板玻璃基板4+1mask1.概述(Track&Exp)B4ProjectConfidential在光刻流程主要有两种设备，一种是TRACK设备，又称为Coater&DeveloperSystem:涂胶及显影设备，它主要是用来给待曝光的玻璃基板涂上光刻胶，并将曝光后的玻璃基板进行显影。另外一个设备就是ALIGNER，又称为曝光机，它主要是将玻璃基板上的PR胶按照指定的图案曝光1.概述(Track&Exp)B4ProjectConfidential112.ArrayLayout-Track2FGateMask1stand2ndITOMaskB4ProjectConfidential122.ArrayLayout-Track4FSDTMaskVIAMaskGateMaskSDTMaskVIAMask1st,2ndMaskB4ProjectConfidential1313Case1：TactTime55sec,VIA&ITOMask-90°TurnAOIRB+AAjetConBufSlitcoaterVCD3HPCon3CPBufTurnTCUExpTurnE/EDev3HPBufCon.IndexerIndexerAOITMAH+AAjet3HPSlitcoaterConBufVCD3HPBufTurnTCU3CPDevExpTurnT/TorE/EIMCCon.BufCon.IMCCon.3.TrackLayoutCase2：TactTime62.5sec,Gate&SDTMaskB4ProjectConfidential14SBRobotCycleTime(6Access)Case1vsCase2Case1:Robot5ea;Case2:robot4eaWhy3.TrackLayoutB4ProjectConfidential154-1.CleanerCleaner：该单元的目的是要在PR涂敷之前对玻璃基板进行彻底清洁，便于增强玻璃基板与PR的粘合力，同时避免玻璃基板上的污物导致Mura产生。Cleaner有以下几个设备组成：Entranceconveyor：机械手从Cassette中取出玻璃放入此设备中，并进行姿势变换。E-UV：紫外光清洗，去除表面有机物。RB：即RollerBrush，作用是除去大的Particle.TMAH：化学清洗，除去表面氧化物。AAjet：喷出高压掺有气泡的DIW，作用是除去较小Particle.AirKnife：即气刀，能喷出的干燥高压空气，作用是对玻璃基板进行干燥。-90°TurnCleanerSlitcoater3HPBufExp3HPIndexerB4ProjectConfidential164-1.Cleaner-Entranceconveyor较大滚轴：目的是便于机械手把玻璃基板顺利放入其中。气缸：姿势变换的动力Entranceconveyor是玻璃基板进入Track产线进入的第一个单元，玻璃基板在此处由水平变为倾斜。B4ProjectConfidential17感应sensor位置：中间便于感知机械手放入玻璃。目的：便于感知玻璃基板的放入。Roller传动采用齿轮传动。4-1.Cleaner-EntranceconveyorB4ProjectConfidential18传送滚轴：金属滚轴目的：是防止强紫外光长时间照射使普通树脂滚轴老化。4-1.Cleaner-E-UV此处还未装E-UV作用：用于除去玻璃基板表面的浮游物质。原理：在一个封闭的chamber内通过紫外光(UV)照射使O2电离生成O3，进而将有机物氧化。关键点：紫外光的强度，均匀度，灯与玻璃基板的距离。B4ProjectConfidential19E-UV排气装置目的：及时排除因除去有机物产生的气体。N2：为了保持由紫外光线产生的O3的状态，防止其分解为O2而失去清洗有机物的作用。DryAir：提供所需的少量氧气。N2DryAir4-1.Cleaner-E-UVB4ProjectConfidential204-1.Cleaner-RB+AAjetRB即RollerBrush，分为上下两个，伴随着水流对基板进行刷洗。作用：除去较大的Particle.1.DrivingMotor：为滚刷的转动提供动力。122.GapControlUnit：控制滚刷的压入量，不同厚度的玻璃基板采用不同的压入量。注：压入量的控制很重要，选择不当可能会划伤玻璃基板。B4ProjectConfidential2133为摆钟传感器：为了感知玻璃基板的位置。注：在有液体喷淋的Chamber内不能用一般的Sensor，防止液体腐蚀电线线路。3注：滚刷的上下分别有水喷淋，清洗玻璃基板的上下表面。AAJet是喷出高压掺有气泡的DIW，它的作用是除去较小的Particle.掺入气泡是为了增加清洗效果。AAjet4-1.Cleaner-RB+AAjetB4ProjectConfidential224-1.Cleaner-AirKnifeAirKnife即风刀能喷出的干燥高压空气对玻璃基板进行干燥。AirKnife上下各有一个B4ProjectConfidential23AirKnife工作顺序如图所示。AirKnife与玻璃基板成一定的夹角，目的：是为了使干燥效果更好。4-1.Cleaner-AirKnifeB4ProjectConfidential24辅助Roller：保证玻璃基板上下空气压力均等，以保护玻璃基板不受损伤。4-1.Cleaner-AirKnifeB4ProjectConfidential25AirKnife吐出的空气均匀性要保证均一。水面分界线越直说明AirKnife吐出的空气均匀性越好，干燥的效果也越好。水面分界线水滴附着部位4-1.Cleaner-AirKnifeB4ProjectConfidential264-1.Cleaner-ExitConveyor感应SensorGlass传动方向ExitConveyor是连接Cleaner和LC的单元。玻璃基板在第一个Sensor处开始减速，在第二个Sensor处停止。玻璃基板停止后进行姿势变换，由倾斜传送变为水平传送。然后机械手把玻璃基板取走。B4ProjectConfidential27Coater处理方法有两种方式：SpinCoater&LinearCoater.①SpinCoater是指以旋转的方式使PR胶均匀涂敷于玻璃基板上。此种方式适用于较小的玻璃基板，5G或5G以下。②LinearCoater即是指玻璃基板不动，Nozzle进行移动从而达到在玻璃基板上涂敷的目的。此种方式适用于较大的玻璃基板，5G或6G以上。Coater作用：在玻璃基板上均匀地涂上光刻胶，然后在VCD中利用低压将PR胶中溶剂部分析出，光刻胶是见光后性质就发生改变的物质，曝光后再显影便形成与MASK一样的图形（正性光刻胶）4-2.Coater-90°TurnCoaterLC3HPBufExp3HPIndexerVCDRobB4ProjectConfidential28PRDispense&SpinSlit&Spin(FAS)Spin-lessNoSpin(onlyslit)Advantages:LargeGlassSubstrateSize,Tacttime↓,PRDispensevolume↓PRCoatingMethodCompareG5~4-2.CoaterB4ProjectConfidential294-2.Coater本单元包括两个部分：1.LinearCoater：将PR胶线性均匀涂敷于玻璃基板上。2.VCD：通过将密闭Chamber内的空气减压的方式使PR内的部分溶剂析出。1.LinearCoater2.VCDB4ProjectConfidential304-2.Coater-LinearCoater在5G设备以前，主要是通过SpinCoater单元高速旋转将PR均匀的涂覆在基板上，由于8G玻璃基板面积大（2200*2500）,高速旋转容易使玻璃基板破碎，且旋转涂胶无法涂布均匀，故而选择线性涂胶的方式。LinearCoater优点：适合大玻璃基板的均匀涂覆，且可以节约PR，减少Thinner使用量。B4ProjectConfidential31①通过Robot将玻璃基板放置于LinearCoater载台上，同时将玻璃基板进行真空吸附。②Nozzle移动到DummyRoller上进行Pre-Dispense保证涂敷均匀性。③Nozzle移动到基板边缘2mm处，位置降低到合适高度(Gap)，开始进行PR涂敷。④涂敷完成后，Nozzle回到待机位置。LinearCoater的涂胶方式是指玻璃基板不动，Nozzle进行往复移动从而将PR胶均匀的涂在玻璃基板上。4-2.Coater-LinearCoaterB4ProjectConfidential32在对PR的排气过程中，有三个脱气装置。1234-2.Coater-LinearCoaterB4ProjectConfidential331、图中四个BufferTank两两为一组。由Resi