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報告人：Ko-Min1內容真空歷史背景為什麼用真空真空系統元件介紹真空鍍膜設備介紹真空鍍膜產品目前與未來2真空歷史背景1643---義大利托里切利之水銀管實驗1654---德國葛瑞克證明大氣的巨大壓力，馬德堡半球1662---英國波以爾定律1879---瑞士白努力定律1835---化學濕式法澱積了銀鏡膜，它們是世界上最早的光學薄膜1905---德國蓋德機械幫浦1936---油擴散幫浦3取得真空環境後可產生大氣中沒有的新現象提高電熱絕緣性能→保溫瓶延長粒子飛行路徑→陰極射線管去除周圍氣體屏障→真空冷凍乾燥減少有害氣體作用→電燈泡高速佈滿物體表面→鍍膜(約mm2/s有105個分子；10-1pa只要幾百分之一秒)為什麼用真空?45真空鍍膜技術應用手機業－手機機殼、按鍵、屏幕、EMI…電腦業－EMI、裝飾…印刷電路板－BGA、軟性基板…製鞋業－Clean、裝飾…被動元件－晶片電阻…汽車業－車燈、裝飾…模具業－抗沾黏、耐磨耗…光電業－LCD、OLED、Solar、TouchPanel…其它－半導體、刀工具、光學鏡片…真空鍍膜設備應用薄膜沉積(ThinFilmDeposition)物理氣相沉積PVD化學氣相沉積CVD蒸鍍離子鍍濺鍍熱反應CVD電漿輔助CVD熱電阻蒸鍍電子束蒸鍍直流濺鍍射頻濺鍍大氣壓CVD低壓CVD67如何抽真空真空腔體高真空Pump粗抽PumpMV(主閥)RV(粗抽閥)FV(前級閥)Vent(破真空閥)LVG(低真空計)HVG(高真空計)ATM大氣感測器BG(製程真空計)粗抽pump-RP+BP(油式迴轉pump+魯式pump)-Drypump+BP(乾式pump)高真空pump-TurboMolecularpump(渦輪分子pump)-Cryopump(冷凍pump)-DiffusionPump(擴散pump)真空系統元件介紹8粗抽PUMP9高真空PUMP10真空計11真空閥門12電源供應器：DC/RF/MF13真空設備介紹1415批次式(batchtype)濺鍍系統批次式(batchtype)濺鍍系統16連續式(立式In-line)濺鍍系統17連續式(臥式In-line)濺鍍系統18Cluster19Cluster20Cluster21CVDFurnace22電漿23真空鍍膜產品2425ThinFilminLCDTFTITOARCoatingBMOLED26太陽能電池ITOorTOorZnOglassp-typea-Sia-Sin-typea-SiAlglasshvSputter/LPCVDPECVDSputter27LED28LED製作流程原料：磷、砷、鎵單晶成長單晶片磊晶膜成長：液相磊晶(LPE)氣相磊晶(VPE,MOCVD)電極圖形製作鍍製電極薄膜晶片磨薄鍍製電極薄膜晶粒切割封裝成品切割、研磨、拋光上游中游下游29其它鍍膜應用30其它鍍膜應用31真空鍍膜未來323334從上述中我們可以了解，真空鍍膜技術及設備在當今和未來都擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。在目前大規模半導體之電學膜：在數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜：在能充分展示和應用各種光學特性的光學膜：在TFT、LCD平面顯示器上的導電膜及増透膜：在建築、汽車行業上應用的玻璃膜及裝飾膜：在包裝領域用防護膜、阻隔膜：在工具、模具上應用的耐磨超硬膜：在奈米材料研究方面的各種功能性薄膜：以上都是真空鍍膜技術及設備在廣泛應用的基礎上得到不斷發展的領域，相信它是永不停止的。結論35END?36