《IC封装设计与仿真》封装内部结构:IC封装设计塑封金线基板芯片RLC元件晶体Pin脚封装发展趋势:IC封装设计趋势:高集成度,高速,低功耗,小型化。芯片封装发展四阶段:第一阶段,20世纪80年代前,以插装型为主;第二阶段,20世纪80年代后,以表面安装类型的四边引线封装为主;第三阶段,20世纪90年代后,以面阵列封装形式为主;第四阶段,21世纪,3D封装为主。封装工艺(sip):SMT,DA,WB,MoldIC封装设计加工工艺:HDI,BuidingupIC封装设计介电层绿油铜层埋孔盲孔通孔金层镍层内层线路Substrate结构加工工艺:IC封装设计:板材IC封装设计介电系数,正切损耗角,导热系数,热膨胀系数,绿色材料,价格因素。加工工艺:SurfaceFinishIC封装设计:SMT,DA,WB,Mold。IC封装设计:Tracewidth,SpacingIC封装设计封装设计:规则驱动设计IC封装设计能为您提供的设计:BGA,LGA,Sip…IC封装设计设计实例:LGA(SMT+FC)IC封装设计WIFI设计实例:LGA(SMT+WB)IC封装设计BlueTooth设计实例:BGA(SMT+Stacked3WBdie)IC封装设计CMMBsip分析:1.直流压降–仿真直流压降,电流密度分布,功率密度分布,电阻网络2.电源完整性–分析电源分配系统的性能,评估不同的叠层,电容容值选择和放置方法,最佳性价比优化去耦电容3.信号完整性–分析信号回流路径的不连续性,分析串扰和SSN/SSO,分析信号延迟,畸变,抖动和眼图4.电磁兼容–分析电磁干扰和辐射5.宽带模型抽取–提取电源分配网络的精确宽带模型,信号和电源/地模型片内电路信息(需要IC设计者提供RTL级信息以及相应的测试向量)2.片内去耦电容信息(IC设计者提供信息)3.片上电源地网格信息(IC设计者提供GDS格式信息)4.封装电源地信息和去耦电容信息5.PCB上core电源地结构信息以及去耦电容信息6.VRMPDS模型:封装级的有效去耦范围:封装级的有效去耦范围:封装电磁仿真1.确保较低的点对点的电阻:对于特定的电流负载,较低的电阻意味着较低的直流压降2.电流的指标:平面电流密度,保证可靠的热稳定性;过孔电流,避免连接失败;3.布局布线、平面分割优化:电压压降分布、平面电流密度、平面功率密度:频域仿真封装电磁仿真提取正封装结构,仿真真个频域的电源阻抗,优化电容数量和组合,提供最优的去耦最低成本的电源完整性方案,并可结合die与PCB做die-Package-PCB真个PDN的仿真。1.模型提取(Modelextraction),可提取IC封装或PCB整板信号和电源的频域阻抗参数和S参数,观测PDS的谐振特性;2.谐振点检测(Hotspotdetection),可分析PDS随频域变化的空间噪声分布和谐振点分布;3.EMC/EMI辐射仿真(EMC/EMIsimulation),可分析整板的远场和近场辐射.PKGPCB:时域仿真封装电磁仿真PI时域的仿真,对电源波动更加直观,我们可以提取正封装结构的S参,或die-Package-PCB整个PDN的S参数到仿真器,加载上电流源电压源,仿真时域内电源的波动,并测量是否超限。的S参数EMC/EMI:封装电磁仿真2.时域仿真器里加入S参数模型和IObuffer,仿真4.FFT结果作频变源输入,运行EMI仿真3.从时域仿真提取激励5.仿真结果辐射远场图以及与EMC规范对比…:RF封装电磁仿真直接从APD/Sip设计文件提取封装的结构,包括bondwire,trace,bump,solderball等,用3D电磁场仿真软件仿真RF端口的传输参数并从结构上进行传输特性的优化。并可将封装与PCB结合,提取优化整个射频通道。PKGPCB:SParameter,TDR,Eye封装电磁仿真PKGPCB:CrossTalk,SSN/SSO封装电磁仿真CrosstalkSSN,P/GBouncePKGPCB封装电磁仿真封装3D建模,提取S参数,阻抗特性,TDR,EMI电磁场辐射模型,波形有震荡和延迟(100ps)。PackageModel对信号的影响PackageIBISModel:基本理论:热传递三种方式封装热仿真dTTkAQajk为材料导热系数(W/m-℃)A为热传导面积Tj为高温面的温度Ta为低温面的温度d为材料厚度传导)(aSTThAQh为对流换热系数A为换热面面积Ts为固体表面的温度Ta为流体温度对流)(44jiijiTTFAQ为辐射率(黑度)为斯蒂芬-波尔兹曼常数,约为5.67×10-8W/m2.K4Ai为辐射面i的面积Fij为由辐射面i到辐射面j的形状系数Ti为辐射面i的绝对温度Tj为辐射面j的绝对温度辐射封装热仿真步骤:封装热仿真建模FlothermIcepak软件:Cadence;Autocad;ProE,UG…文件格式:Idf,igs,sat,step,dxf…在热分析软件中直接建实体模型,或通过其他软件导入封装结构;定义材料热性能参数…后处理图形显示温度场;节点温度hotpoint;计算热阻;列表各面的热流率,换热系数…求解定义求解域,求解类型;施加热载荷,定义边界条件;划分网格,定义收敛标准;求解…封装热阻的定义:封装热仿真IC封装而言,最重要的参数是由芯片接面到固定位置的热阻,其定义如右:热阻值θ或是R表示,Tj=Die发热部位的温度值die(“junction”),Tx=某参考点的温度值,P=芯片的功耗。常用的定义:θja,θjb,θjc,ψjb,ψjtQTTXjjX封装热阻模型:θjx使用的局限性封装热仿真•qjx试图采用简单的热阻表示复杂的芯片传热现象•芯片内部的热传现象非常复杂,无法使用热阻来完美表示;•热阻qjx无法用于准确预测芯片的温度,只能提供定性的热性能对比;•如需准确预测特定工况下芯片的温度,我们需要其它的方法Convection/RadiationConvection/RadiationConductionConvectionConductionRadiationConductionJunctionXθjx封装热阻模型:芯片的详细模型封装热仿真BTDielectricThermalViasSolderBalls(37Pb/63Sn)Epoxy-basedEncapsulantSiliconDieDieAttach&SolderMaskGoldBondWiresCuTracesPower&GroundPlanesBottomSpreaderDieFlagSignalVias模型包含几乎所有的详细特征,如金丝,锡球,芯片(die),底层等.用于封装层次的建模,描述以及测量确认等.–精度高–边界条件无关,与网络模型不同–计算时间比简化的模型多–仅仅用于非常重要的封装封装热阻模型:DELPHI模型封装热仿真热阻模型的提取:DELPHI模型封装热仿真:PackageSize封装热阻影响因子1:PackageSize封装热阻影响因子1:PackageSize封装热阻影响因子3:HeatSpreaderAndHeatSlug封装热阻影响因子2:PackagingMaterial封装热阻影响因子3:HeatSpreaderAndHeatSlug封装热阻影响因子4:DieSize封装热阻影响因子5:DevicePowerDissipation封装热阻影响因子6:DevicePowerDissipation封装热阻影响因子7:AirFlowRate封装热阻影响因子8:MountingParameters封装热阻影响因子9:PCBoardTemperature封装热管理优化:材料选择封装热仿真封装热管理优化:材料选择,结构优化封装热仿真原设计优化2优化1封装失效模式:封装结构仿真封装失效的来由:封装结构仿真封装体是由不同的材料堆叠而成,当在生产或使用过程中有热产生时,由于材料的CTE不匹配,会在封装结构中产生热应力,导致一系列的可靠性问题,如warpage,delamination,crack等等。操作步骤:封装结构仿真StartCreatProject1.Aim2.ModelType1D,2D,3D3.ReadyMPandBCPREP7ElementTypeRealConstantMaterialProperties1.CreatSolidModel2.MeshFEMModelDirectly?1.CreatFEMDirectlyOtherSetting:CreateComponents,Coupling,RigidArea…SolutionAnalysisTypeBoundaryC