磁控溅射矩形靶磁场的优化设计

磁控溅射矩形靶磁场的优化设计作者：石中兵，童洪辉，赵嘉学作者单位：核工业,西南物理研究院,四川,成都,610041刊名：真空与低温英文刊名：VACUUMANDCRYOGENICS年，卷(期)：2004,10(2)被引用次数：6次参考文献(7条)1.王力衡;黄运添;郑海涛薄膜技术19912.曲敬信;汪泓宏表面工程手册19983.李云奇真空镀膜技术与设备19894.梁灿彬;秦光戎;梁竹健电磁学19895.李泉凤电磁场数值计算与电磁铁设计20026.刘翔宇;赵来;许生磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计[期刊论文]-真空2002(03)7.姜燮昌大面积反应溅射技术的最新进展及应用[期刊论文]-真空2002(03)引证文献(6条)1.辛荣生.林钰.蔡彬.胡斌纳米锐钛矿型TiO2薄膜的制备及分析[期刊论文]-稀有金属2011(2)2.吉亚萍.张琳琳.李鹏.侯兴刚.黄美东溅射沉积TiO2薄膜结构及性能的基础研究[期刊论文]-天津师范大学学报（自然科学版）2010(1)3.庞恩敬.朱颖.李芬.李刘合.卢求元.朱剑豪多靶磁控溅射系统磁场优化设计[期刊论文]-核技术2010(12)4.常铁军.武秀芳.孙杰.孙艳磁控溅射制备TiO2光催化薄膜工艺条件的优化[期刊论文]-应用科技2007(1)5.邢丽芬矩形平面靶磁场分析及薄膜厚度模拟[学位论文]硕士20066.徐万劲磁控溅射技术进展及应用(上)[期刊论文]-现代仪器2005(5)本文链接：