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精密离子减薄仪PrecisionIonPolishingSystem型号:691主要功能:主要用于陶瓷、半导体、金属等材料的透射电子显微镜(TEM)样品的制备。主要技术参数:极限待机真空度：3×10-5Pa；轰击电压：0-6keV；离子枪转角：0~±10o；样品台转速：1~6rpm/min；试样厚度d≤30μm工作原理：在高真空条件下，离子枪提供高能量的氩离子流，对样品表面以某一入射角度连续轰击，当氩离子流的轰击能量大于样品表层原子结合能时，样品表面原子发生溅射。连续不断的溅射，最后获得所需要的薄膜样品。操作注意事项：1．必须经管理人员同意方可使用；2．样品在离子减薄前要通过机械研磨或凹坑，厚度要小于30μm。3．样品台一定要水平（沿X轴方向）放置到样品室中。4．在离子减薄过程中，每个样品前60%的时间用10o角，中间20%的时间用7o角，最后20%的时间用4o角。5．离子枪每工作1小时一定要停止15分钟，如果连续工作会烧坏离子枪。6．离子束调节开关(IonBeamModulator)要在Double状态，切忌在off状态。主机示意图：1.左枪电流;2.束能量(keV)/前级气压(Torr);3.右枪电流;4.左枪气流控制;5.左枪气阀开关;6.右枪气阀开关;7.右枪气流控制;8.真空表;9.MDP指示灯;10.前级气压指示灯;11.DP测试按钮;12.循环终止重设按钮;13.主电源开关;14.束状态指示灯;15.离子束调节器开关;16.角度状态指示灯;17.气锁放气指示灯;18.气锁防气开关;19.离子枪电压控制;20.计时器开关按钮;21.计时器设置按钮;22.剩余时间显示;23.转速控制;24.样品升降控制;25.气锁抽气开关;26.气锁真空指示灯