Nikon光刻机对准系统概述及模型分析

Nikon光刻机对准系统概述及模型分析作者：何峰，吴志明，王军，袁凯，蒋亚东，李正贤，HEFeng，WUZhiming，WANGJun，YUANKai，JIANGYadong，LIZhengxian作者单位：何峰,吴志明,王军,袁凯,蒋亚东,HEFeng,WUZhiming,WANGJun,YUANKai,JIANGYadong(电子薄膜与集成器件国家重点实验室,电子科技大学,四川成都610054)，李正贤,LIZhengxian(上海微高精密机械工程有限公司,上海,201203)刊名：电子工业专用设备英文刊名：EQUIPMENTFORELECTRONICPRODUCTSMANUFACTURING年，卷(期)：2009,38(4)被引用次数：1次参考文献(7条)1.戈亚萍相位光栅对准技术研究[学位论文]20082.程建瑞亚半微米投影光刻的自动对准技术1997(04)3.SMurakamiLaserStepAlignmentforaWaferStepperinOpticalMicrolithographyIV19854.TadashiNagayama;ShinichiNakajima;AyakoSugayaNewMethodtoReduceAlignmentErrorCausedbyOpticalSystem20035.GBouwhuis;SWittekoekAutomaticAlignmentSystemforopticalProjectionPrinting[外文期刊]1979(04)6.陈敏麟投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型[期刊论文]-电子学报1999(07)7.PDerekCoon;ArunAAiyerHighSpeedAlignmentSimulatorforNikonSteppers1999本文读者也读过(9条)1.陈德鹅.吴志明.王军.袁凯.何峰.蒋亚东.CHENDe-e.WUZhi-ming.WANGJun.YUANKai.HEFeng.JIANGYa-dongNikon步进重复光刻机的对位机制[期刊论文]-微处理机2009,30(6)2.董同社.DONGTongshe高精度投影光刻机对准微动硅片台[期刊论文]-电子工业专用设备2009,38(1)3.韦俊.杨兴平.WEIJun.YANGXing-ping光刻设备中工件台激光测长原理[期刊论文]-电子工业专用设备2008,37(10)4.王鲁宾.周金运.宋超.WANGLu-bin.ZHOUJin-yun.SONGchao基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究[期刊论文]-中国集成电路2008,17(2)5.曾爱军.王向朝.徐德衍投影光刻机调焦调平传感技术的研究进展[期刊论文]-激光与光电子学进展2004,41(7)6.ModernXu.LucianLiu光刻技术与光刻机[期刊论文]-中国集成电路2004(8)7.严利人Nikon光刻机对准机制和标记系统研究[期刊论文]-微细加工技术2002(3)8.李运锋.韦学志.宋海军.徐荣伟.LIYun-feng.WEIXue-zhi.SONGHai-jun.XURong-wei基于粗对准与精对准信号分开探测的对准系统[期刊论文]-光学与光电技术2009,7(6)9.郭立萍.黄惠杰.王向朝步进扫描投影光刻机中的曝光剂量控制技术研究[期刊论文]-激光杂志2004,25(6)引证文献(1条)1.马万里厚铝芯片制造工艺的光刻对准效果改善[期刊论文]-微纳电子技术2011(10)本文链接：