显影浅析

显影液分解的感光层显影是制版的关键，影响最终制版的质量和稳定性，很多的制版问题常出现在此。显影原理用显影液将已经曝光并发生分解的感光层（阳图PS版）部分溶解，使印版形成图像和非图像两个部分的过程，称之为显影。显影原理：PS版曝光后感光树脂分解，放出氮气，引起环的开裂，分子结构发生重排，生成茚酮化合物，遇水生成茚酸化合物，此化合物遇碱则生成钠盐而溶于水，裸露出铝版基，形成了不含图像的空白区域，这些区域自然形成亲水层，而未感光的部位保留了原有感光树脂的亲油特性，自然形成印版的图像部位，印刷时即可接受油墨。显影液版显影液是一种碱性水溶液，它由显影剂、保护剂、润湿剂和水等材料组成。①显影剂是用来溶解已受光部分感光层物质，主要为碱性物质，常用药品有氢氧化钠、氢氧化钾、硅酸钠、磷酸钠等。a．氢氧化钠属于强碱，具有显影能力强、显影速度快、价格便宜等特点，但它同时对未感光的涂层也有一定的侵蚀作用，使版面留膜率降低，还可使显影后的空白铝版基氧化膜受到侵害。因此，使用氢氧化钠作为显影剂时，应注意下述原则：常用于氧化膜较厚和进行过封孔处理的PS版。常用于感光层抗强碱类型的PS版。氢氧化钠配成的显影液在空气中易吸收空气中的二氧化碳生成碳酸钠，因而稳定性差。目前单独使用氢氧化钠的情况已经不多，常与其他材料配合使用，其用量根据不同要求会有不同，一般来说重量百分比为O．1％一O．5％氢氧化钾与氢氧化钠性能相近，其侵蚀性比氢氧化钠略弱，所以，用氢氧化钾作为显影剂时使用量可以比氢氧化钠多O．4倍。b．硅酸钠属于强碱弱酸盐，具有显影速度快、性能较稳定、使用寿命长等特点。硅酸钠易水解生成氢氧根离子，它可补充显影过程中氢氧根离子的损失，使显影液的pH值得到稳定。水解后生成的酸式硅酸钠可以进行脱水反应，其生成物吸附到印版氧化膜的孔隙中，对氧化膜有保护作用，增加印版的亲水性能，此现象可称为印版的后封孔。因此，未封孔的PS版常用硅酸钠作为显影液。②保护剂主要作用是稳定显影液，降低显影液在显影过程中对印版的腐蚀，保护图文部分的感光层不受显影液的侵蚀，因此，保护剂也称抑制剂。常用的抑制剂有磷酸钠或氯化钾等。磷酸钠(Na3P03)的缓冲原理：它在水中水解时，有调节显影液pH值的作用。水解反应生成的磷酸还有对版面去脏的作用，有利于显影后版面残留碱液的去除。氯化钠也可以作为保护剂使用，氯化钠在显影过程中形成的氯离子，有抑制感光层吸水溶涨的作用和助洗的作用。③润湿剂’主要是为降低显影液的表面张力，使显影液有较好的润湿性和分散均匀性，提高显影的均匀度。主要材料是表面活性剂，如十二烷基苯磺酸钠等。④溶剂主要是水，但对水的要求比较高。普通自来水由于存在大量的钙、镁盐类易产生沉淀或絮状物，因此，用去离子水或软化水比较好。显影液配方举例氢氧化钠与硅酸钠混合配方：氢氧化钠硅酸钠表面活性剂加水至使用显影液的注意事项：①在实际使用中，显影液经常是配成浓度较大的溶液，称为浓缩液，在显影时与一定比例的水相混合。②由于制造PS版的厂家制造技术的不同，在显影的耐碱性方面有很大区别，一般厂家都推荐自己的显影液与其版材相配套，应尽量使用厂家推荐的显影液。③从环保角度出发，显影液的浓度有向弱碱方向发展的趋势，这样既降低了腐蚀性能，又减轻了废液的排放。显影方式手擦式：目前很少再用，要注意操作时用力的均匀性和安全性。由于手工操作，导致显影易不均匀，有些版不适合采用这种显影方式槽显：显影温度同室温，环境对显影效果影响较大，特别是冬厦两季。要注意水槽体积对水流和水压的影响，合理配比显影液。对于PS版试版来说，这是一种比较好的显影方式，显影和水洗都比较充分，显影比较单纯，不会受到其它因素的影响。机显：主流显影方式，自动控制显影过程，显影机是关键。本章机显的大部分内容也适合于CTP显影机显影环境照明：不同类型的版材有不同的照明要求，同晒版要求温度：20--26℃相对湿度：60%左右空气洁净度：通风顺畅有利于废气的排出，保持正气压，无尘埃，保证版房的洁净显影参数根据不同品牌版材、显影液和实际显影效果和遵照供应商建议设定显影温度：一般在23--28℃显影浓度：1：4--1：显影时间：18--28s（版停留在显影液的时间）浅析:显影不足与曝光过度阳图PS版在使用过程中常见的故障很多，分析其原因除PS版本身的质量问题外，在制版过程及印刷过程中使用不当也是造成各种故障的重要原因。现根据制版及印刷的实际工作状况，对阳图PS版常的故障进行具体分析，并提出排除方法，以利印刷厂更好地用好PS版。一、印刷空白部分上脏：1、曝光不足：PS版的制版原理是在曝光过程中，光通过阳图底版的透光部分(空白部分)使感光剂发生解，放出气氮气，感光剂分子结构发生重排，产生茚酮化合物；这种化合物不溶于水，但易溶于稀碱溶液，因而露出氧化膜即空白部分。而未见光的图文部分则基本没有变化成为吸附油墨的印版图文部分。如果空白部分曝光时间太短，光线太弱，曝光不足则感光剂分解不完全，显影时溶解不彻底，有残存的感光剂就会引起空白部分吸墨起脏。因此晒版时应先用晒版测试条测试好正确的曝光时间，使密度在0.35及0.35以下晒掉不上墨（行标）。或在曝光、显影、水洗、干燥后的PS版空白部分用丙酮、独乙醚或修版液在空白部分去除底色，肉眼观察基本没有明显痕迹，或用反射密度计测定未除去底色与除去底色部位的密度值差0.03(行标)。2、显影不足：空白部分感光剂没有充分溶解，仍有残存的感光剂造成空白部分上脏。其原因有：(1)显影液浓度不足：应按规定的配制方法配制规定浓度的显影液，并应根据显影液显影后衰减的程度进行补充。(2)显影时间不够：一般应为35±10秒，最多不应超过1分钟。(3)显影液温度过低：显影液最佳温度应为22±2°C。因为温度度化10°C，显影速度随之变化3-4倍，即温度高显影快温度低显影慢；浓度高显影快，浓度低显影慢；制版时可根据具体情况灵活掌握。(4)显影液疲劳：显影液由于连续显影或因长时间裸露在空气中，因吸收空气中的CO2，显影能力会逐渐降低衰退，连续显影时间过长也会出现与显影液浓度过低相类似的情况。因此显影液应尽量避免长时间裸露在空气中。(5)显影液污染:因PS版的感光剂含有少量染料，在显影时，染料会和曝光光解的感光树指一起溶解到显影液中而积累起来。当显影的PS版达到一定量，染料积累达到一定程度后，显影液中的染料就会被PS版砂目的微孔吸附造成自我污染。因此必须更换新显影液。3、原版软片及晒版玻璃有脏：(1)原版软片空白部分有灰露及脏污，密度太高透明不好，可适当延长曝光及显影时间或采用散射膜二次曝光法去除脏污。采用散射膜曝光时，一般将主曝光时间减少四分之一，然后采用蒙散射膜二次曝光；蒙光时间为主曝光的三分之一到二分之一，即可将软片脏污及软片边迹带印等去掉。如果原版软片灰严重只能重新制版，使其空白部分密度不超过0.05。(2)晒版机玻璃有脏应经常清理，保持卫生。晒版机不用时应将玻璃盖好，以防灰尘。4、曝光不匀：因晒版机光源系点光源晒版光源距PS版各部距离不等，曝光时PS版中间部分距光源近，曝光量大，四角部分距光源远，曝光量小，容易造成四周部分曝光不足上脏。可适当提高光源距离，减少PS版各部分光距差，并适当增加曝光时间。晒版时应兼顾PS版各部分的曝光量，一般灯距以1.2M为宜，改变灯距后曝光时间的计算公式为：t=t。(r/r)2式中：t。原曝光时间r。为原灯距r为变动后的灯距t为所求的变动后的曝光时间5、正常曝光显影水洗后版面仍呈兰色：(1)PS版生产过程烘干温度偏高，造成感光层老化，可适当增加曝光及显影时间；如果曝光前PS版感光层深度老化则版材只好作废。(2)PS版存放温度太高，存放时间太长(一年以上)，或在空气中裸露时间太长，感光层被空气氧化而老化，可适当增加曝光及显影时间来解决。