提高配位滴定选择性的方法

1§4-6提高配位滴定选择性的方法一、选择性滴定可能性判断当M与N两种金属离子共存时，它们均可与EDTA配位，要准确滴定M，而N离子不干扰。经推导计算，得：lgK5(CMCN)若不能满足条件，要采用方法提高滴定的选择性。2二、提高配位滴定选择性的途径1.掩蔽和解蔽法提高配位滴定的选择性M与N共存，都能与EDTA配位，但又不满足选择滴定的要求，在这种情况下，需加入一种合适的试剂，先与干扰离子作用，以消除干扰，这种方法为掩蔽法，所加试剂称为掩蔽剂。3常用的掩蔽法：(1)配位掩蔽法(2)沉淀掩蔽法(3)氧化还原掩蔽法（1）配位掩蔽法加入某种配位剂作掩蔽剂与N离子形成稳定的配合物，从而降低溶液中N离子的浓度，达到选择性滴定M的目的。例如在Al3+,Zn2+两种离子共存的溶液中测定Zn2+。4（2）沉淀掩蔽法沉淀掩蔽法：加入某种沉淀剂，使N离子生成沉淀，以降低其浓度，这种方法为沉淀掩蔽法。例如在Ca2+，Mg2+共存的溶液中，测定Ca2+的含量。5（3）氧化还原掩蔽法加入某种氧化剂或还原剂使与N离子发生氧化还原反应，改变其价态，使原价态的N离子浓度降低，从而可选择性滴定M，这种掩蔽方法称为氧化还原掩蔽法。例如有Fe3+存在时，测定Bi3+等离子的含量。6（4）解蔽作用利用一种试剂，使已被掩蔽剂掩蔽的金属离子释放出来，这一过程称为解蔽。例如测定铜合金的锌和铅。2.应用其他配位剂提高配位滴定的选择性