北京工业大学半导体器件原理2015-2016年考试题

整理文档很辛苦,赏杯茶钱您下走!

免费阅读已结束,点击下载阅读编辑剩下 ...

阅读已结束,您可以下载文档离线阅读编辑

资源描述

2015-2016一填空题1.本门课程介绍的4种类型晶体管分别为:____________,____________,____________,和____________。2.PN结电击穿按产生机制分为:____________,和____________。PN结电容包括:____________,和____________。3理想开关,二极管,三极管和FET导通时的压降分别为____________,____________,____________,____________反相截止时电流分别为____________,____________,____________,____________。4双极型晶体管的大电流效应即____________效应,包括____________,____________,____________。二名词解释1.基区渡越时间_______________________________________________________________2β(orhfe)__________________________________________________________________3.BVCEO______________________________________________________________________4.ICEO________________________________________________________________________5.ts__________________________________________________________________________6.rb__________________________________________________________________________7.Early效应8.GMAE______________________________________________________________________9.沟道长度调制效应___________________________________________________________10.沟道电导调制效应___________________________________________________________三计算题30分1.N+PN双极结型晶体管在正向有源区工作时的基区少数载流子分布为npB(x)=npB(0)(1-x/WB),基区渡越时间为:τB=QB’/InB,试推导出τB=WB2/2DnB(10分)(给出详细的推导步骤)。解:2.某晶体管的基区输运系数β*=0.99,注入效率γ=0.97,试求此管的α与β。当此管的有源区方块电阻R□B乘以3,其余参数均不变时,其α与β变为多少?3.某N沟道MOSFET的VT=1V,β=4×10-3AV-2,求当VDS=2V,VGS分别为2V、3V、4V时的漏极电流之值。四综述题50分1.画出单发射极条、双基极接触光刻版制作的SiN+PN外延平面BJT芯片主要工艺步骤的2'(0).2(0)2pBBBBBnBnBpBnBqAn'0(0)(0)(1)2BpBBWBPBBqAnWxQqAnW()(0)pBnBpBnBnBBdnxqADnIqADdxW平面图和所对应的剖面图。(10分)(可忽略SiO2台阶)2.分别画出均匀基区NPN晶体管在放大状态、饱和状态和截止状态,反相放大状态时的能带图。(10分)3.画出n沟耗尽型MOSFET转移特性曲线、并标出阈值电压VT,画出其输出特性曲线,并标出VGS值、临界饱和线、非饱和区、饱和区,给出VDSAT,IDSAT的表达式。(10分)4.在npn开关双极晶体管的输出特性曲线上标出下降时间,并通过开关过程中少子的分布图来说明下降时间存在的原因。10分5什么是MOS管的跨导?跨导的表达式?提高跨导的方法。10分

1 / 2
下载文档,编辑使用

©2015-2020 m.777doc.com 三七文档.

备案号:鲁ICP备2024069028号-1 客服联系 QQ:2149211541

×
保存成功