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一、无尘室须知1.进入无尘室前，必须知会管理人，并通过基本训练。2.进入无尘室严禁吸烟，吃(饮)食，外来杂物(如报章，杂志，铅笔...等)不可携入，并严禁嘻闹奔跑及团聚谈天。3.进入无尘室前，需在规定之处所脱鞋，将鞋置于鞋柜内，外衣置于衣柜内，私人物品置于私人柜内，柜内不可放置食物。4.进入无尘室须先在更衣室，将口罩，无尘帽，无尘衣以及鞋套按规定依程序穿戴整齐，再经空气洗尘室洗尘，并踩踏除尘地毯(洗尘室地板上)方得进入。5.戴口罩时，应将口罩戴在鼻子之上，以将口鼻孔盖住为原则，以免呼吸时污染芯片。6.穿著无尘衣，无尘帽前应先整理服装以及头发，以免着上无尘衣后，不得整理又感不适。7.整肃仪容后，先戴无尘帽，无尘帽的穿戴原则系:(1)头发必须完全覆盖在帽内，不得外露。(2)无尘帽之下摆要平散于两肩之上，穿上工作衣后，方不致下摆脱出，裸露肩颈部。8.无尘帽戴妥后，再着无尘衣，无尘衣应尺吋合宜，才不致有裤管或衣袖太短而裸露皮肤之虞，穿衣时应注意帽之下摆应保平整之状态，无尘衣不可反穿。9.穿著无尘衣后，才着鞋套，拉上鞋套并将鞋套整平，确实盖在裤管之上。10.戴手套时应避免以光手碰触手套之手掌及指尖处(防止钠离子污染)，戴上手套后，应将手套之手腕置于衣袖内，以隔绝污染源。11.无尘衣着妥后，经洗尘，并踩踏除尘毯，方得进入无尘室。12.不论进入或离开无尘室，须按规定在更衣室脱无尘衣，不可在其它区域为之，尤不可在无尘室内边走边脱。13.无尘衣，鞋套等，应定期清洗，有破损，脱线时，应即换新。14.脱下无尘衣时，其顺序与穿著时相反。15.脱下之无尘衣应吊好，并放于更衣室内上层柜子中;鞋套应放置于吊好的无尘衣下方。16.更衣室内小柜中，除了放置无尘衣等规定物品外，不得放置其它物品。17.除规定纸张及物品外，其它物品一概不得携入无尘室。18.无尘衣等不得携出无尘室，用毕放置于规定处所。19.口罩与手套可视状况自行保管或重复使用。20.任何东西进入无尘室，必须用洒精擦拭干净。21.任何设备的进入，请知会管理人，在无尘室外擦拭干净，方可进入。22.未通过考核之仪器，禁止使用，若遇紧急情况，得依紧急处理步骤作适当处理，例如关闭水、电、气体等开关。23.无尘室内绝对不可动火，以免发生意外。二、无尘室操作须知1.处理芯片时，必须戴上无纤维手套，使用清洗过的干净镊子挟持芯片，请勿以手指或其它任何东西接触芯片，遭碰触污染过的芯片须经清洗，方得继续使用：(1)任何一支镊子前端(即挟持芯片端)如被碰触过，或是镊子掉落地上，必须拿去清洗请勿用纸巾或布擦拭脏镊子。(2)芯片清洗后进行下一程序前，若被手指碰触过，必须重新清洗。(3)把芯片放置于石英舟上，准备进炉管时，若发现所用镊子有污损现象或芯片上有显眼由镊子所引起的污染，必须将芯片重新清洗，并立即更换干净的镊子使用。2.芯片必须放置盒中，盖起来存放于规定位置，尽可能不让它暴露。3.避免在芯片上谈话，以防止唾液溅于芯片上，在芯片进扩散炉前，请特别注意，防止上述动作产生，若芯片上沾有纤维屑时，用氮气枪喷之。4.从铁弗龙(Teflon)晶舟，石英舟(QuartzBoat)等载具(Carrier)上，取出芯片时，必须垂直向上挟起，避免刮伤芯片，显微镜镜头确已离芯片，方可从吸座上移走芯片。5.芯片上，若已长上氧化层，在送黄光室前切勿用钻石刀在芯片上刻记。6.操作时，不论是否戴上手套，手绝不能放进清洗水槽。7.使用化学站或烤箱处理芯片时，务必将芯片置放于铁弗龙晶舟内，不可使用塑料盒。8.摆置芯片于石英舟时，若芯片掉落地上或手中则必须重新清洗芯片，然后再进氧化炉。9.请勿触摸芯片盒内部，如被碰触或有碎芯片污染，必须重作清洗。10.手套，废纸及其它杂碎东西，请勿留置于操作台，手套若烧焦、磨破或纤维质变多必须换新。11.非经指示，绝不可开启不熟悉的仪器及各种开关阀控制钮或把手。12.奇怪的味道或反应异常的溶液，颜色，声响等请即通知相关人员。13.仪器因操作错误而有任何损坏时，务必立刻告知负责人员或老师。14.芯片盒进出无尘室须保持干净，并以保鲜膜封装，违者不得进入。15.无尘室内一律使用原子笔及无尘笔记本做记录，一般纸张与铅笔不得携入。三、黄光区操作须知1.湿度及温度会影响对准工作，在黄光区应注意温度及湿度，并应减少对准机附近的人，以减少湿、温度的变化。2.上妥光阻尚未曝光完成之芯片，不得携出黄光区以免感光。3.己上妥光阻，而在等待对准曝光之芯片，应放置于不透明之蓝黑色晶盒之内，盒盖必须盖妥。4.光罩使用时应持取边缘，不得触及光罩面，任何状况之下，光罩铬膜不得与他物接触，以防刮伤，光罩之落尘可以氮气枪吹之。5.曝光时，应避免用眼睛直视曝光机汞灯。四、镊子使用须知1.进入实验室后，应先戴上手套后，再取镊子，以免沾污。2.唯有使用干净的镊子，才可持取芯片，镊子一旦掉在地上或被手触碰，或因其它原因而遭污染，必须拿去清洗，方可再使用。3.镊子使用后，应放于各站规定处，不可任意放置，如有特殊制程用镊子，使用后应自行保管，不可和实验室内各站之镊子混合使用。4.持镊子应采握笔式姿势挟取芯片。5.挟取芯片时，顺序应由后向前挟取，放回芯片时，则由前向后放回，以免刮伤芯片表面。6.挟取芯片时，短边(锯状头)置于芯片正面，长边(平头)置于芯片背面，挟芯片空白部分，不可伤及芯片。7.严禁将镊子接触酸槽或D.IWater水槽中。8.镊子仅可做为挟取芯片用，不准做其它用途。五、化学药品使用须知1.化学药品的进出须登记，并知会管理人，并附上物质安全资料表（MSDS）于实验室门口。2.使用化学药品前，请详读物质安全资料表(MSDS)，并告知管理人。3.换酸前必先穿著防酸塑料裙，戴上防酸长袖手套，头戴护镜，脚着塑料防酸鞋，始可进行换酸工作。4.不得任意打开酸瓶的盖子，使用后立即锁紧盖子。5.稀释酸液时，千万记得加酸于水，绝不可加水于酸。6.勿尝任何化学药品或以嗅觉来确定容器内之药品。7.不明容器内为何种药品时，切勿摇动或倒置该容器。8.所有化学药品之作业均须在通风良好或排气之处为之。9.操作各项酸液时须详读各操作规范。10.酸类可与碱类共同存于有抽风设备的储柜，但绝不可与有机溶剂存放在一起。11.废酸请放入废酸桶，不可任意倾倒，更不可与有机溶液混合。12.废弃有机溶液置放入有机废液桶内，不可任意倾倒或倒入废酸桶内。13.勿任意更换容器内溶液。14.欲自行携入之溶液请事先告知经许可后方可携入，如果欲自行携入之溶液具有危险性时，必须经评估后方可携入，并请于容器上清楚标明容器内容物及保存期限。15.废液处理：废液分酸、碱、氢氟酸、有机、等，分开处理并登记，回收桶标示清楚，废液桶内含氢氟酸等酸碱，绝对不可用手触碰。16.漏水或漏酸处理：漏水或漏酸时，为确保安全，绝对不可用手触碰，先将电源总开关与相关阀门关闭，再以无尘布或酸碱吸附器处理之，并报备管理人。六、化学工作站操作1.操作时须依规定，戴上橡皮手套及口罩。2.不可将塑料盒放入酸槽或清洗槽中。3.添加任何溶液前，务必事先确认容器内溶剂方可添加。4.在化学工作站工作时应养成良好工作姿势，上身应避免前倾至化学槽及清洗槽之上方，一方面可防止危险发生，另一方面亦减少污染机会。5.化学站不操作时，有盖者应随时将盖盖妥，清洗水槽之水开关关上。6.化学药品溅到衣服、皮肤、脸部、眼睛时，应即用水冲洗溅伤部位15分钟以上，且必须皮肤颜色恢复正常为止，并立刻安排急救处理。7.化学品外泄时应迅速反应，并做适当处理，若有需要撤离时应依指示撤离。8.各化学工作站上使用之橡皮手套，避免触碰各机台及工作台，及其它器具等物，一般操作请戴无尘手套。七、RCAMethod1.DIWater5min2.H2SO4:H2O2=3:1煮10~20min75~85℃，去金属、有机、油3.DIWater5min4.HF:H2O10~30sec，去自然氧化层(NativeOxide)5.DIWater5min6.NH4OH:H2O2;H2O=1:1:5煮10~20min75~85℃，去金属有机7.DIWater5min8.HCl:H2O2:H2O=1:1:6煮10~20min75~85℃去离子9.DIWater5min10.SpinDry八、清洗注意事项1.有水则先倒水﹐H2O2最后倒﹐数字比为体积比。2.有机与酸碱绝对不可混合﹐操作平台也务必分开使用。3.酸碱溶液等冷却后倒入回收槽﹐并以DIWater冲玻璃杯5min。4.酸碱空瓶以水清洗后﹐并依塑料瓶﹐玻璃瓶分开置于室外回收筒。5.氢氟酸会腐蚀骨头﹐若碰到立即用葡萄酸钙加水涂抹，再用清水冲洗干净，并就医。碰到其它酸碱则立即以DIWater大量冲洗。6.清洗后之Wafer尽量放在DIWater中避免污染。7.简易清洗步骤为1-2-9-10；清洗SiO2步骤为1-2-10；清洗Al以HCl:H2O=1:1。8.去除正光阻步骤为1-2-10，或浸入ACE中以超音波振荡。9.每个玻璃杯或槽都有特定要装的溶液﹐蚀刻、清洗、电镀、有机绝不能混合。10.废液回收分酸、碱、氢氟酸、电镀、有机五种，分开回收并记录，倾倒前先检查废弃物兼容性表，确定无误再倾倒。无尘室系统使用操作方法1.首先打开控制器面板上的【电热运转】、【加压风车运转】、【浴尘室运转】、【排气风车运转】等开关。注意:＊温度控制器及湿度控制器可由黄色钮调整，一般温度控制为20℃DB，湿度控制为50%RH。＊左侧的控制器面板上电压切换开关为【RU】，电流切换开关为【T】。右侧的控制器面板上电压切换开关为【RS】，电流切换开关为【OFF】。2.将箱型空气调节机的送风关关打开，等送风稳定后再将冷气暖气开关打开，此时红色灯会亮起，表示正常运作。注意:＊冷气的起动顺序为压缩机【NO.2】。＊温度调节为指针指向红色暖气【5】。＊分流开关AIRVALVE为【ON】。3.无尘室使用完毕后，要先将箱型空气调节机关闭，按【停止】键即可。4.再将控制器面板上的【电热运转】、【加压风车运转】、【浴尘室运转】、【排气风车运转】等开关依序关闭。气体钢瓶使用操作方法1.用把手逆时针打开气体钢瓶到底，将【OUTLET】打开PURGE关闭。2.由黑色转钮调整气体钢瓶的压力(psi)，顺时针方向为增加，逆时针方向为减少。3.将N2钢瓶调整为40psi（黄光室内为20psi）,AIR钢瓶调整为80psi（黄光室内为60psi）。4.气体钢瓶使用完毕后，用把手顺时针关闭气体钢瓶到底，将【OUTLET】关闭【PURGE】打开将管路内的气体排出后将【PURGE】关闭。纯水系统使用操作方法1.阀门控制(1)阀门(VALVE)V1、V2、V3、V4、V6、V8、V10、V12、V13、V14、V16、V17、V19应保持全开。(2)阀门V5、V7、V11、V18、V21应保持全关。(3)阀门V9、V20为调压作用，不可全开或全关。(4)阀门中V5为砂滤机之BY-PASS，V15为U.V灯之BY-PASS，V18为DI桶之BY-PASS，V21为RO膜之BY-PASS。2.自动造水步骤1：如上【阀门控制】将各球阀门开关定位。步骤2：控制箱上，各切换开关保持在【OFF】位置。步骤3：将控制箱上【系统运转】开关切换至【ON】位置。步骤4：电磁阀1激活先做初期排放。步骤5：电磁阀2激活造水。步骤6：此时，PUMP1、PUMP2依序激活，系统正常造水，RO产水经管路进入储水桶(TANK)，当水满后控制箱上高液位指示灯亮，系统自动停机，并于储水桶水位下降至低液位时再激活造水。3.系统用水将控制箱上之【夜间循环-停-用水】切换开关切换至【用水】，此时PUMP3输送泵浦激活，TANK内之纯水经帮浦输送至U.V、DI桶及精密过滤后，供现场各使用点使用。4.夜间循环控制箱上之【夜间循环-停-用水】切换开关，主要在配合每日下班或连续假日停止供水后管路之卫生考虑，其步骤为:(1)停止供水59分钟后，系统再自动供水1分钟。(2)此后每隔59分钟供水循环1分钟至夜间循环【停】为止。5.系统侦测本系统中附有各项压力表、流量计及导电度计，