AET_01_半导体器件.

整理文档很辛苦,赏杯茶钱您下走!

免费阅读已结束,点击下载阅读编辑剩下 ...

阅读已结束,您可以下载文档离线阅读编辑

资源描述

模拟电子技术AnalogElectronicTechnology第一章半导体器件§1.1半导体的基本知识§1.2半导体二极管§1.3半导体三极管§1.4场效应晶体管1-21.1.1导体、半导体和绝缘体导体:自然界中很容易导电的物质称为导体,金属一般都是导体。绝缘体:有的物质几乎不导电,称为绝缘体,如橡皮、陶瓷、塑料和石英。半导体:另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘体之间,称为半导体,如锗、硅、砷化镓和一些硫化物、氧化物等。§1.1半导体的基本知识1-3半导体的导电机理不同于其它物质,所以它具有不同于其它物质的特点。例如:•当受外界光的作用时,它的导电能力明显变化——光敏效应。•往纯净的半导体中掺入某些杂质,会使它的导电能力明显改变——掺杂效应。1-4•当受外界热的作用时,它的导电能力明显变化——热敏效应。1.1.2本征半导体一、本征半导体的结构特点GeSi通过一定的工艺过程,可以将半导体制成晶体。现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗,它们的最外层电子(价电子)都是四个。1-5本征半导体:完全纯净的、结构完整的半导体晶体。在硅和锗晶体中,原子按四角形系统组成晶体点阵,每个原子都处在正四面体的中心,而四个其它原子位于四面体的顶点,每个原子与其相临的原子之间形成共价键,共用一对价电子。硅和锗的晶体结构:1-6硅和锗的共价键结构共价键共用电子对+4+4+4+4+4表示除去价电子后的原子1-7共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电子,因此本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导体的导电能力很弱。形成共价键后,每个原子的最外层电子是八个,构成稳定结构。共价键有很强的结合力,使原子规则排列,形成晶体。+4+4+4+41-8二、本征半导体的导电机理在绝对0度(T=0K)和没有外界激发时,价电子完全被共价键束缚着,本征半导体中没有可以运动的带电粒子(即载流子),它的导电能力为0,相当于绝缘体。在常温下,由于热激发,使一些价电子获得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电子,同时共价键上留下一个空位,称为空穴。1.载流子、自由电子和空穴1-9+4+4+4+4自由电子空穴束缚电子1-102.本征半导体的导电机理+4+4+4+4在其它力的作用下,空穴吸引附近的电子来填补,这样的结果相当于空穴的迁移,而空穴的迁移相当于正电荷的移动,因此可以认为空穴是载流子。本征半导体中存在数量相等的两种载流子,即自由电子和空穴。1-11温度越高,载流子的浓度越高。因此本征半导体的导电能力越强,温度是影响半导体性能的一个重要的外部因素,这是半导体的一大特点。本征半导体的导电能力取决于载流子的浓度。本征半导体中电流由两部分组成:1.自由电子移动产生的电流。2.空穴移动产生的电流。1-121.1.3杂质半导体在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就会使半导体的导电性能发生显著变化。其原因是掺杂半导体的某种载流子浓度大大增加。P型半导体:空穴浓度大大增加的杂质半导体,也称为(空穴半导体)。N型半导体:自由电子浓度大大增加的杂质半导体,也称为(电子半导体)。1-13一、N型半导体在硅或锗晶体中掺入少量的五价元素磷(或锑),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代,磷原子的最外层有五个价电子,其中四个与相邻的半导体原子形成共价键,必定多出一个电子,这个电子几乎不受束缚,很容易被激发而成为自由电子,这样磷原子就成了不能移动的带正电的离子。每个磷原子给出一个电子,称为施主原子。1-14+4+4+5+4多余电子磷原子N型半导体中的载流子是什么?1.由施主原子提供的电子,浓度与施主原子相同。2.本征半导体中成对产生的电子和空穴。掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度,所以,自由电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多数载流子(多子),空穴称为少数载流子(少子)。1-15二、P型半导体在硅或锗晶体中掺入少量的三价元素,如硼(或铟),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代,硼原子的最外层有三个价电子,与相邻的半导体原子形成共价键时,产生一个空穴。这个空穴可能吸引束缚电子来填补,使得硼原子成为不能移动的带负电的离子。由于硼原子接受电子,所以称为受主原子。+4+4+3+4空穴硼原子P型半导体中空穴是多子,电子是少子。1-16三、杂质半导体的示意表示法------------------------P型半导体++++++++++++++++++++++++N型半导体杂质型半导体多子和少子的移动都能形成电流。但由于数量的关系,起导电作用的主要是多子。近似认为多子与杂质浓度相等。1-17一、PN结的形成在同一片半导体基片上,分别制造P型半导体和N型半导体,经过载流子的扩散,在它们的交界面处就形成了PN结。1.1.4PN结及其单向导电性1-18P型半导体------------------------N型半导体++++++++++++++++++++++++扩散运动内电场E漂移运动扩散的结果是使空间电荷区逐渐加宽,空间电荷区越宽。内电场越强,就使漂移运动越强,而漂移使空间电荷区变薄。空间电荷区,也称耗尽层。1-19漂移运动P型半导体------------------------N型半导体++++++++++++++++++++++++扩散运动内电场E所以扩散和漂移这一对相反的运动最终达到平衡,相当于两个区之间没有电荷运动,空间电荷区的厚度固定不变。1-20------------------------++++++++++++++++++++++++空间电荷区N型区P型区电位VV01-211.空间电荷区中没有载流子。2.空间电荷区中内电场阻碍P中的空穴.N区中的电子(都是多子)向对方运动(扩散运动)。3.P区中的电子和N区中的空穴(都是少),数量有限,因此由它们形成的电流很小。注意:1-22二、PN结的单向导电性PN结加上正向电压、正向偏置的意思都是:P区加正、N区加负电压。PN结加上反向电压、反向偏置的意思都是:P区加负、N区加正电压。1-23----++++RE1、PN结正向偏置内电场外电场变薄PN+_内电场被削弱,多子的扩散加强能够形成较大的扩散电流。1-242、PN结反向偏置----++++内电场外电场变厚NP+_内电场被加强,多子的扩散受抑制。少子漂移加强,但少子数量有限,只能形成较小的反向电流。RE1-251.2.1基本结构PN结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。引线外壳线触丝线基片点接触型1-26§1.2半导体二极管PN二极管的电路符号:1-27PN结面接触型1.2.2伏安特性UI死区电压硅管0.5V,锗管0.2V。导通压降:硅管0.5~0.7V,锗管0.2~0.3V。反向击穿电压UBR1-281.2.3主要参数1.最大整流电流IOM二极管长期使用时,允许流过二极管的最大正向平均电流。2.反向击穿电压UBR二极管反向击穿时的电压值。击穿时反向电流剧增,二极管的单向导电性被破坏,甚至过热而烧坏。手册上给出的最高反向工作电压UWRM一般是UBR的一半。1-293.反向电流IR指二极管加反向峰值工作电压时的反向电流。反向电流大,说明管子的单向导电性差,因此反向电流越小越好。反向电流受温度的影响,温度越高反向电流越大。硅管的反向电流较小,锗管的反向电流要比硅管大几十到几百倍。以上均是二极管的直流参数,二极管的应用是主要利用它的单向导电性,主要应用于整流、限幅、保护等等。下面介绍两个交流参数。1-304.微变电阻rDiDuDIDUDQiDuDrD是二极管特性曲线上工作点Q附近电压的变化与电流的变化之比:DDDiur显然,rD是对Q附近的微小变化区域内的电阻。1-315.二极管的极间电容二极管的两极之间有电容,此电容由两部分组成:势垒电容CB和扩散电容CD。势垒电容:势垒区是积累空间电荷的区域,当电压变化时,就会引起积累在势垒区的空间电荷的变化,这样所表现出的电容是势垒电容。扩散电容:为了形成正向电流(扩散电流),注入P区的少子(电子)在P区有浓度差,越靠近PN结浓度越大,即在P区有电子的积累。同理,在N区有空穴的积累。正向电流大,积累的电荷多。这样所产生的电容就是扩散电容CD。P+-N1-32CB在正向和反向偏置时均不能忽略。而反向偏置时,由于载流子数目很少,扩散电容CD可忽略。PN结高频小信号时的等效电路:势垒电容和扩散电容的综合效应rd1-33实际二极管:硅二极管:死区电压0.5V,正向压降0.7V锗二极管:死区电压0.2V,正向压降0.3V1-34理想二极管:死区电压0,正向压降0二极管的简化模型RLuiuouiuott二极管的应用举例1:二极管半波整流电路1-35二极管的应用举例2:二极管充放电电路tttuiuRuoRRLuiuRuo1-36一、稳压二极管UIIZIZmaxUZIZ稳压误差曲线越陡,电压越稳定。+-UZ动态电阻:ZZIUZrrz越小,稳压性能越好。1.2.4特殊二极管1-37(4)稳定电流IZ、最大、最小稳定电流Izmax、Izmin。(5)最大允许功耗maxZZZMIUP稳压二极管的参数:(1)稳定电压UZ(2)电压温度系数U(%/℃)稳压值受温度变化影响的的系数。(3)动态电阻ZZIUZr1-38负载电阻:要求:当输入电压由正常值发生20%波动时,负载电压基本不变。稳压二极管的应用举例uoiZDZRiLiuiRLmaxmin10V,20mA,5mAzWzzUII稳压管的技术参数:k2LR求:电阻R和输入电压ui的正常值。1-39uoiZDZRiLiuiRL解:令输入电压达到上限时,流过稳压管的电流为Izmax。mA25maxLZWzRUIi102521RUiRu.zWi——方程11-40令输入电压降到下限时,流过稳压管的电流为Izmin。mA10minLZWzRUIi101080RUiRu.zWi——方程2uoiZDZRiLiuiRL联立方程1、2,可解得:k50V7518.R,.ui1-41二、光电二极管反向电流随光照强度的增加而上升。IU照度增加1-42三、发光二极管有正向电流流过时,发出一定波长范围的光,目前的发光管可以发出从红外到可见波段的光,它的电特性与一般二极管类似。1-43四、其他特殊二极管常见的特殊二极管除了前面介绍的稳压二极管、整流二极管、光电二极管、发光二极管以外,利用二极管的某些参数随电压的变化还可以制成变容二极管、变阻二极管、激光二极管、开关二极管等。1-441.3.1常见三极管外形§1.3半导体三极管(triode)1-451.3.1基本结构BECNNP基极发射极集电极NPN型PNP集电极基极发射极BCEPNP型§1.3半导体三极管1-46BECNNP基极发射极集电极基区:较薄,掺杂浓度低集电区:面积较大发射区:掺杂浓度较高1-47在制造三极管的过程中,对其内部3个区域都有一定的工艺要求,必须保证它们具有下列特点:1.发射区掺杂浓度大,以利于发射区向基区发射载流子。2.基区薄,掺杂少,这样载流子易于通过。3.集电区面积比发射区面积大且掺杂少,利于收集载流子基于上述特点,可知三极管并不是2个PN结的简单组合,它不能用2个三极管代替,也不可以颠倒使用发射级和集电极。BECNNP基极发射极集电极发射结集电结1-49分类:1.按材料不同:硅管和锗管2.按内部基本结构:NPN、PNP3.按工作频率不同:高频管(3MHZ),低频管(4MHZ)4.按功率不同:小功率管(P1W)、大功率管(P1W)5.按用途不同:普通放大三极管和开关三极管。1.3.2电流放大原理BECNNPEBRBECIE基区空穴向发射区的扩散可忽略。IBE进入P区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电流IBE,多数扩散到集电结。发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流IE。1-51BECNNPEBRBECIE集电结反偏,有少子形成的反向电流ICBO。ICBOIC=ICE+ICBOICEIBEICE从基区扩

1 / 101
下载文档,编辑使用

©2015-2020 m.777doc.com 三七文档.

备案号:鲁ICP备2024069028号-1 客服联系 QQ:2149211541

×
保存成功