1第一章习题1.设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量EV(k)分别为:EC(K)=0220122021202236)(,)(3mkhmkhkEmkkhmkhV0m。试求:为电子惯性质量,nmaak314.0,1(1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量;(3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)eVmkEkEEEkmdkEdkmkdkdEEckkmmmdkEdkkmkkmkVCgVVVc64.012)0()43(0,0600643038232430)(2320212102220202020222101202因此:取极大值处,所以又因为得价带:取极小值处,所以:在又因为:得:由导带:043222*83)2(1mdkEdmkkCnC2sNkkkpkpmdkEdmkkkkVnV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11所以:准动量的定义:2.晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。解:根据:tkhqEf得qEktsatsat137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(半导体物理第2章习题5.举例说明杂质补偿作用。当半导体中同时存在施主和受主杂质时,若(1)NDNA因为受主能级低于施主能级,所以施主杂质的电子首先跃迁到NA个受主能级上,还有ND-NA个电子在施主能级上,杂质全部电离时,跃迁到导带中的导电电子的浓度为n=ND-NA。即则有效受主浓度为NAeff≈ND-NA(2)NAND施主能级上的全部电子跃迁到受主能级上,受主能级上还有NA-ND个空穴,它们可接受价带上的NA-ND个电子,在价带中形成的空穴浓度p=NA-ND.即有效受主浓度为NAeff≈NA-ND(3)NAND时,不能向导带和价带提供电子和空穴,称为杂质的高度补偿6.说明类氢模型的优点和不足。3优点:基本上能够解释浅能级杂质电离能的小的差异,计算简单缺点:只有电子轨道半径较大时,该模型才较适用,如Ge.相反,对电子轨道半径较小的,如Si,简单的库仑势场不能计入引入杂质中心带来的全部影响。第三章习题和答案7.①在室温下,锗的有效态密度Nc=1.051019cm-3,NV=3.91018cm-3,试求锗的载流子有效质量m*nm*p。计算77K时的NC和NV。已知300K时,Eg=0.67eV。77k时Eg=0.76eV。求这两个温度时锗的本征载流子浓度。②77K时,锗的电子浓度为1017cm-3,假定受主浓度为零,而Ec-ED=0.01eV,求锗中施主浓度ED为多少?3173183'3183193'3''/1008.530077109.330077/1037.1300771005.13007730077772cmNNcmNNTTKNKNNNKVVCCCCVC)()()()()()(、时的)(317181717003777276.0211718313300267.0211819221/1017.1)1037.110067.001.021(10)21(2121exp21/1098.1)1008.51037.1(77/107.1)109.31005.1()()3(00000cmeNnkoTEenNeNeNNnncmenKcmeneNNnCoDDNnTkEDTkEEEEDTkEEDDkikikoTEgvciCoDFCcDFD时,室温:kgmNTkmkgmNTkmTmkNTmkNvpcnpvnc31031202310320223202320106.229.022101.556.022)2(2)2(21.7得)根据(48.利用题7所给的Nc和NV数值及Eg=0.67eV,求温度为300K和500K时,含施主浓度ND=51015cm-3,受主浓度NA=2109cm-3的锗中电子及空穴浓度为多少?14.计算含有施主杂质浓度为ND=91015cm-3,及受主杂质浓度为1.11016cm3,的硅在33K时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。eVnpTkEEeVNpTkEEcmpnncmNNpcmnSiKTiiFvVFiDAi336.0105.1102ln026.0ln224.0101.1102ln026.0ln10125.1102,105.1300101500191500350203150310或:饱和区流子浓度,处于强电离掺杂浓度远大于本征载的本征载流子浓度时,解:第四章习题及答案1.300K时,Ge的本征电阻率为47cm,如电子和空穴迁移率分别为3900cm2/(V.S)和1900cm2/(V.S)。试求Ge的载流子浓度。解:在本征情况下,inpn,由)(/pnipnuuqnpqunqu111知3150315031003150212202122020202000031521''313221/1084.4/1084.9500/108/105300)2(2)2(20)(0/109.6)(500/100.2)(300.8'020cmpcmnKtcmpcmnKTnNNNNpnNNNNnnNNnnnpnNNpncmeNNnKcmeNNnKiDADAiADADiADiADVCiTkEVciTkgeg时:时:根据电中性条件:时:时:53131910292190039001060214711cmuuqnpni.)(.)(2.试计算本征Si在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1350cm2/(V.S)和500cm2/(V.S)。当掺入百万分之一的As后,设杂质全部电离,试计算其电导率。比本征Si的电导率增大了多少倍?解:300K时,)/(),/(SVcmuSVcmupn225001350,查表3-2或图3-7可知,室温下Si的本征载流子浓度约为3101001cmni.。本征情况下,cmS+.uuqnpqunqu-pnipn/.)()(6191010035001350106021101金钢石结构一个原胞内的等效原子个数为84216818个,查看附录B知Si的晶格常数为0.543102nm,则其原子密度为322371051054310208cm).(。掺入百万分之一的As,杂质的浓度为3162210510000001105cmND,杂质全部电离后,iDnN,这种情况下,查图4-14(a)可知其多子的迁移率为800cm2/(V.S)cmS.quN-nD/.''468001060211051916比本征情况下增大了66101210346..'倍17.①证明当unup且电子浓度n=nipninpuunpuu,时,材料的电导率最小,并求min的表达式。解:npinpnququnnnqupqu2pinpiunnqdnduunnqdnd3222222),(令puinpinpiuunpuunnuunndnd/,/)(002260223222ppinnpnpnpiiuunnuunuuquuuuunnqdndnpi/)/(/因此,npiuunn/为最小点的取值puinnpippuiuuqnuuunuuunq2)//(min②试求300K时Ge和Si样品的最小电导率的数值,并和本征电导率相比较。查表4-1,可知室温下硅和锗较纯样品的迁移率Si:cmSuuqnpui/..min7101910732500145010110602122cmSuuqnnpii/.)(.)(61019101235001450101106021Ge:cmSuuqnpui/..min61019103881800380010110602122cmSuuqnnpii/.)(.)(610191097818003800101106021第五章习题5.n型硅中,掺杂浓度ND=1016cm-3,光注入的非平衡载流子浓度n=p=1014cm-3。计算无光照和有光照的电导率。6.画出p型半导体在光照(小注入)前后的能带图,标出原来的的费米能级和光照时的准费米能级。cmsqnqupqnpppnnncmpcmncmpncmnKTnpni/16.21350106.110:,/1025.2,10/10.105.1,30019160000003403160314310无光照则设半导体的迁移率)本征空穴的迁移率近似等于的半导体中电子、注:掺杂有光照131619140010(/19.20296.016.2)5001350(106.11016.2)(:cmcmsnqqpqnpqnqpnpnpn77.掺施主浓度ND=1015cm-3的n型硅,由于光的照射产生了非平衡载流子n=p=1014cm-3。试计算这种情况下的准费米能级位置,并和原来的费米能级作比较。第六章答案EcEiEvEcEFEiEvEFpEFn光照前光照后TkEEenpTkEEenncmNnpppcmnnnFPiioiFniDi01414152101420315141503/101010)105.1(10/101.11010度强电离情况,载流子浓0.0517eVPFEFE0.0025eVFEnFE0.289eV10101.51410Tln0kinDNTlnokiEFE平衡时0.229eV10101.51410Tln0kiEFPEiPPTln0kiEFPE0.291eV10101.515101.1Tln0kiEFnEinnTln0kiEFnE8910