TEM样品的制备-文档资料55页

1透射电子显微分析样品制备要求:透射电镜的复型技术金属薄膜样品的制备陶瓷材料试样的制备•要求：•1.样品要足够薄(10-200nm)•2.提供需要观察的、有代表性的视场•3.不能改变样品的结构与成分（如机械损伤、化学反应、组织转变）•4.满足真空环境的要求、具一定导电性、可经受电子束的辐照等透射电镜的复型技术（间接样品）对复型材料的主要要求：①复型材料本身必须是“无结构”或非晶态的；②有足够的强度和刚度，良好的导电、导热和耐电子束轰击性能;③复型材料的分子尺寸应尽量小，以利于提高复型的分辨率，更深入地揭示表面形貌的细节特征;常用的复型材料是非晶碳膜和各种塑料薄膜。一级复型塑料一级复型和碳一级复型塑料一级复型：在已制备好的表面清洁的金相样品或断口样品上滴几滴体积浓度为1%的火棉胶醋酸戊酯溶液或醋酸纤维素丙酮溶液，溶液在样品上展平，用滤纸把多余的溶液吸掉，待溶液蒸发后样品表面即留下一层100nm左右的塑料薄膜。揭下薄膜，剪成对角线小于3mm的小方块或直径为3mm的圆片，放在专用铜网上，即可进行TEM分析。这种复型属于负复型。根据质厚衬度原理，塑料复型样品可以得到具有衬度的图像。特点：可以用于金相组织的分析，其图像与金相显微组织有极好的对应性；制备简便，对分析直径为20nm左右的细节比较清晰；只能做表面比较平整样品的分析，不适合表面起伏较大的样品；分辨率不高，在电子束照射下容易分解。碳一级复型：直接把表面清洁的金相样品放入真空镀膜装置中，在垂直样品表面的方向蒸镀一层数十纳米的碳膜。把喷有碳膜的样品用小刀划成对角线小于3mm的小方块，然后把该样品放入配好的分离液中进行电解或化学分离。电解分离时，样品做阳极，不锈钢平板作阴极。不同样品选用不同的电解液、抛光电压和电流密度。分离的碳膜在丙酮或酒精中清洗后便可置于铜网上放入电镜观察。化学分离一般用氢氟酸双氧水溶液。特点：碳粒子小，分辨直径达2nm；膜厚度均匀；导电、导热性能较好；但相对较为复杂。碳一级复型与塑料一级复型比较：（1）碳膜的厚度基本相同，塑料膜的上表面基本是平面，膜的厚度随试样位置不同而异；（2）塑料复型不破坏样品，而碳复型，样品受到破坏；（3）碳复型的分辨率比塑料复型高；（4）塑料复型相比碳复型简便。8萃取复型法（一次复型）可用于表面浮凸状析出物的萃取（失去了取向关系的信息）,要注意腐蚀液的选择,腐蚀液不能与萃取相发生反应改变萃取相结构、形态和尺寸.用于细夹杂物、析出相的成分、形态、尺寸分布等分析1．塑料——碳二级复型塑料一碳二级复型由于其制备过程不损坏金相试样表面，重复性好，供观察的第二级复型一碳膜导电导热性好，在电子束照射下较为稳定，因而得到广泛的应用。塑料-碳二级复型制备过程示意图•（1）在样品表面滴一滴丙酮，然启贴上一片与样品大小相近的AC纸(1-6％醋酸纤维素丙酮溶液薄膜)。注意不要留下气泡或皱折．待AC纸干透后小心揭下。反复贴AC纸3-4次以去除腐蚀产物，将最后一片AC纸留下，这片AC纸就是所需要的塑料一级复型。（2）将AC纸复型面朝上平整地贴在衬有纸片的胶带纸上。（3）将复型放人真空镀膜机真空室中，使投影重金属的蒸发源与复型成一定角度，角度视表面凸凹而定，通常在15一45度之间。常投影后再沿垂直方向喷镀一层碳．当无油处白色瓷片变成浅褐色时为宜。（4）将醋酸纤维一碳复合膜剪成小于中3mm小片投入丙酮中，待醋酸纤维素溶解后，用镊子夹住铜网将碳膜捞起．如果碳膜卷曲，可将其捞人蒸馏水中，靠水的表面声力把卷负的碳膜展开，然后再用铜网捞起．（5）将捞起的碳膜放到滤纸上吸水干燥后即可放人电镜中观察。特点：（1）不破坏样品表面；（2）最终复型是带有重金属投影的碳膜，稳定性和导电导热性好；（3）分辨率与塑料一级复型相当；金属薄膜样品的制备薄膜制备的基本要求：首先薄膜应对电子束“透明”，制得的薄膜应当保持与大块样品相同的组织结构。其次薄膜得到的图像应当便于分析，所以即使在高压电子显微镜中也不宜采用太厚的样品，减薄过程做到尽可能的均匀．薄膜应具有适当的强度和刚性。最后，薄膜制备方法必须便于控制，具备足够的可靠性和重复性。一般程序：(1)线切割——制备厚度约0.20-0.30mm的薄片；(2)机械研磨减薄：用金相砂纸研磨至100m左右，不可太薄防止损伤贯穿薄片。(3)化学抛光预减薄——从圆片的一侧或两则将圆片中心区域减薄至数100m左右；从薄片上切取3mm的圆片。(4)双喷电解终减薄。（抛光液体：10%高氯酸酒精溶液；样品用丙酮或者无水酒精装）双喷电解抛光装置原理图陶瓷材料试样的制备A.颗粒试样的制备方法B陶瓷薄膜试样（离子减薄）电镜制样设备电镜制样是最重要的环节之一，应该给足够的重视试样研磨器(DiscGrinder)超声波切片机(UltrasonicDiscCutter)挖坑机(DimpleGrinder)离子减薄仪（PrecisionIonPolishingSystem）电解双喷仪真空喷镀仪(VacuumEvaporator)33支撑TEM样品的3mm的网支撑网有多种材料如Cu、Ni、Be、尼龙等可根据需要进行选择，与要分析样品的成分分开34金属薄膜的制备——预减薄冲出100m3mm的薄片中心区域机械法预减薄至10m35金属薄膜样品的制备——双喷法可用于导电样品的制备36金属薄膜样品的制备——离子减薄法可用于几乎所有样品的制备（但要注意离子损伤倾向和热效应）37几种样品制备方法的特点及选择一与金相制样相同，制备简单，不破坏样品，仅能得到样品表面形貌，用于组织观察二次复型法主要用于钢中细小夹杂物、析出相观察，配合能谱可对细小夹杂物、析出相进行成分分析，利用电子衍射可进行相的结构分析萃取法（一次复型）用于钢的组织、结构、晶体取向、位错类型、密度分布等研究金属薄膜法含铜钢中ε-Cu析出分析夹杂物的结构分析一双喷电解法与离子减薄的比较44双喷电解法与离子减薄的比较(e)(25000)(f)(100000)离子减薄金属陶瓷的结构分析(a)(b)(c)图6.7透射电镜下观察到的孪晶透射电镜下金属陶瓷的孪晶•透射电子显微镜成像原理质厚衬度像试样中各部位因质量和厚度的差异而对入射电子的散射能力不同，引起图像中衬度的变化，称质厚衬度像。特点：单束成像→透射束成像，散射电子对图像强度无贡献。生物试样质厚衬度像图例Au/Ge分形衍射衬度像晶体试样中，各部位满足Bragg条件的程度不同，引起图像中衬度的差异，称衍射衬度像衍射衬度是来源于晶体试样各部分满足布拉格反射条件不同和结构振幅的差异。明场像——采用物镜光栏将衍射束挡掉，只让透射束通过而得到图象衬度的方法称为明场成像，所得的图象称为明场像。暗场像——用物镜光栏挡住透射束及其余衍射束，而只让一束强衍射束通过光栏参与成像的方法，称为暗场成像，所得图象为暗场像。暗场成像有两种方法：偏心暗场像与中心暗场像。衍衬像形成原理明场像暗场像•必须指出：①只有晶体试样形成的衍衬像才存明场像与暗场像之分，其亮度是明暗反转的，即在明场下是亮线，在暗场下则为暗线，其条件是，此暗线确实是所造用的操作反射斑引起的。②它不是表面形貌的直观反映，是入射电子束与晶体试样之间相互作用后的反映。为了使衍衬像与晶体内部结构关系有机的联系起来，从而能够根据衍衬像来分析晶体内部的结构，探测晶体内部的缺陷，必须建立一套理论，这就是衍衬运动学理论和动力学理论。