NO3 —— 对仿制药研发“两座大山”的深入解析(有关物质部分)

谢沐风上海市食品药品检验所[e-mail]如何科学、客观、理性地进行仿制制剂研发中有关物质研究★阐述原料药质量标准中必须拟定有关物质的原理★阐述制剂质量标准中可不拟定有关物质的情形当原料药→0天制剂→2年制剂，有关物质皆未变化，则可不拟定。▲但注射剂必须拟定。（因前几年的“药害事件”）。“有关物质皆未变化”的具体含义★14号资料稳定性考核数据中，单个杂质量和总杂质量测定数据波动范围均在0.02%以内。（着重诠释……）★引申至自身对照法与归一化法的“互换妙用”。★引申至稳定性考核数据间的“相辅相成性”。(1)有关物质与含量间。（有关物质间见上）(2)各时间点含量间。（无变化必须在2.0%以内波动）(3)列举令人哭笑不得的案例。（资料中色谱图的注释）杂质量控制在0.02%范围内波动的试验技巧★从首张液相图谱开始，最小峰面积便设定为原料药/0.03%或制剂/0.05%。（阐述原理和众多案例……）。★液相使用技巧……(1)必须保证空白溶剂色谱图测定理想！(2)梯度洗脱注意事项（流动相组成与洗脱设定）。(3)安装色谱柱的技巧与清洗色谱柱法则。(4)最低检出限的“画龙点睛之笔”（相当于……）仿制药研发中“有关物质”研究思路★剖析既有质量标准(1)着重看制剂质量标准、而非原料药质量标准(2)进口质量标准杂质现今皆为代号、不要想获得杂质对照品、且无需获得。★原研制剂尽可能获取不同时间段的多个批号。★原研制剂必须同仿制制剂一起进行加速试验与长期稳定性考核试验，观测杂质变化情况（测定酌情），获得所谓的“杂质谱”。（注意积分）仿制药研发中“有关物质”研究思路★针对质量标准中已规定的已知杂质（一般为不断增加杂质、既降解杂质）(1)原研制剂肯定存在，且在不断增加……(2)只要仿制制剂没有超出质量标准中所规定的限度值即可，即便超出原研制剂量。(3)不排除极个别情况。（讲述……）(4)三类仿制时，根据原研品6个月结果拟定。仿制药研发中“有关物质”研究思路★针对未知杂质(1)原研制剂也存在，且杂质量在0.1%以上。原研制剂6个月考核结果，该杂质量无变化。仿制制剂该杂质量不应超出原研制剂，且6个月考核结果，该杂质量也无变化。结论：质量标准中无需专门控制，笼统要求即可。如未知杂质不得过0.2%。（杂质量为0.15%情况）仿制药研发中“有关物质”研究思路★针对未知杂质(2)原研制剂不存在仿制制剂该杂质量在0.05%~0.10%，可以。结论：质量标准中无需专门控制，笼统要求即可。如未知杂质不得过0.1%。（杂质量为0.08%情况）仿制药研发中“有关物质”研究思路★针对未知杂质(3)原研制剂不存在仿制制剂中该杂质量超出0.10%。结论：切勿“钻牛角尖——做杂质药理毒理研究”，那就陷入了“罗生门”！解决办法：从原料药或制剂工艺入手理清思路——第一步：查询各类质量标准。第二步：测定原研制剂（包括3个月加速试验）第三步：测定仿制制剂所用的原料药。第四步：测定0天仿制制剂。第五步：测定6个月仿制制剂与参比制剂。综合考虑结果，拟定质量标准……举例：盐酸普拉克索片的仿制进口质量标准：梯度洗脱、3个波长、13个代号杂质（且分别有校正因子、相对保留时间等）。第一步：勿更改梯度洗脱、仍为3个波长。第二步：测定原研品，设定最小峰面积为0.05%。结果仅检出1个不断增加杂质（加速试验和长期试验结果也证实）和2个大于0.10%杂质，其他杂质均未检出。第三步：液质联用测定出增加杂质结构式，推算出降解途径；合成并获得该杂质对照品，质量标准中既可拟定采用杂质对照品测定该目标杂质、也可拟定采用“相对保留时间-校正因子结合法”。第四步：对于另2个大于0.10%、但不增加杂质，仿制制剂也应不增加，且含量未超出原研制剂，即可。质量标准中采用笼统法测定即可。举例：复方制剂有关物质研究思路第一步：查询每一个主成分单方制剂国内外质量标准，观测是否有目标降解杂质。（应可寻找到……）第二步：通过杂质谱比较，对未变化/增加的杂质，质量标准中不予拟定（原研制剂一定要平行做稳定性考核试验）。第三步：质量标准中仅拟定降解杂质，既可拟定采用杂质对照品法、也可拟定采用“相对保留时间-校正因子结合法”。第四步：不建议采用笼统法测定未知杂质。质量标准拟定法★虽首选杂质对照品法，但对照品的获得与验证令人发憷！（自行酌情定夺……）乐于采用“相对保留时间-校正因子结合法”。(1)杂质对照品仅用于研究时验证校正因子（如何验证）和系统适用性试验用（讲述如何配制该溶液）。(2)为确保相对保留时间的准确性，质量标准中必须指明色谱柱型号与具体参数。（绝不要认为这样不好、恰相反！）(3)质量标准中的系统适用性试验既可用杂质对照品、又可用强破坏试验法。建议：该实验应尽可能拟定。质量标准中采用强破坏试验法验证系统适用性的典型图谱min0510152025303540mAU0246VWD1A,Wavelength=280nm(XMF\05112203.D)15.753min0510152025303540mAU0246VWD1A,Wavelength=280nm(XMF\05112204.D)14.81215.928min0510152025303540mAU0246VWD1A,Wavelength=280nm(XMF\05112205.D)强破坏试验的深度剖析★对该理念产生的历史背景……★试验结论：基本上没有推翻既有色谱条件，实际是……★破坏方法：没有统一规定、自己看着办……★如何应答药审中心老师提出的“质量守恒”要求……★一定要赋予二极管阵列检测器检测主峰纯度的测定……溶液稳定性试验的判定不能单从主成分入手！还要注意所有组分的百分比变化，绝对值变化！min024681012141618202224mAU60708090100110120130140150160mAU60708090100110120130140150160917085.9230.86104328888.41098.165918514.6260.564500222.7290.422:210nm,8nm傾乕僥僗僱乕僩昗弨梟塼傾乕僥僗僱乕僩昗弨梟塼02-Rep4柺愊曐帩帪娫柺愊%杂质-1（为已知杂质）青蒿琥酯杂质-2杂质-3新杂质时间(h)峰面积百分比峰面积百分比峰面积百分比峰面积百分比均未检出0148110.14%1036960099.26%575110.55%50320.05%0.5360280.35%1014652598.89%557860.54%223310.22%1595200.57%1038238898.58%580980.55%317170.30%1.5689800.66%1034454198.45%595210.57%338980.32%2789480.75%1036038698.33%591720.56%380650.36%3917080.86%1043288898.16%591850.56%4500020.42%RSD0.96％期待着与您的进一步交流！[e-mail]（谢沐风）