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第二章集成电路的基本制造工艺2.1常用半导体材料简介2.2制造工艺简介2.3双极集成电路制造工艺2.4MOS集成电路制造工艺2.5Bi-CMOS工艺2.1常用半导体材料1.概述2.硅和多晶硅3.砷化钾4.磷化铟5.绝缘材料6.金属材料SiO2、SiON、Si3N4等绝缘体硅、锗、砷化镓、磷化铟等半导体铝、金、钨、铜等导体材料分类表2.1集成电路制造所应用到的材料分类1.概述：半导体材料在集成电路的制造中起着根本性的作用硅，砷化镓和磷化铟是最基本的三种半导体材料2.硅（Si）可以制作：二极管双极型晶体管（BJT）结型场效应管（J-FET）P型、N型MOS场效应管双极CMOS（BiCMOS）……几乎无处不在，半导体行业中的硅大多是多晶硅多晶硅(polysilicon,常用poly表示)多晶硅与单晶硅都是硅原子的集合体。多晶硅是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅且其特性都随结晶度与杂质原子而改变。非掺杂的多晶硅薄层实质上是半绝缘的，电阻率为300W·cm。通过不同杂质的组合，多晶硅的电阻率可被控制在500—0.005W·cm多晶硅被广泛用于电子工业。在MOS及双极器件中，多晶硅用制作栅极、形成源极与漏极（双极器件的基区与发射区）的欧姆接触、基本连线、薄PN结的扩散源、高值电阻等。多层硅层可用溅射法，蒸发或CVD法沉淀。多晶硅可用扩散法、注入法掺杂，也可在沉淀多晶硅的同时通入杂质气体（In-Situ法）来掺杂。3.砷化镓(GaAs)能工作在超高速超高频，其原因在于这些材料具有更高的载流子迁移率，和近乎半绝缘的电阻率可用来制造三种有源器件:MESFET（金属半导体肖特基结场效应晶体管）HEMT（高电子迁移率晶体管）HBT（异质结双极型晶体管）4.磷化铟(InP)能工作在超高速超高频可制造三种有源器件:MESFET,HEMT和HBT广泛应用于光纤通信系统中5.绝缘材料SiO2、SiON和Si3N4是IC系统中常用的几种绝缘材料功能包括：充当离子注入及热扩散的掩膜钝化层电隔离6金属材料半导体表面制作了金属层后，根据金属的种类及半导体掺杂浓度的不同，可形成肖特基型接触或欧姆接触•如果掺杂浓度较低，金属和半导体结合面形成肖特基型接触，构成肖特基二极管。•如果掺杂浓度足够高，以致于隧道效应可以抵消势垒的影响，那么就形成了欧姆接触。器件互连材料包括金属，合金，多晶硅，金属硅化物IC制造用金属材料铝，铜，铬，钛，钼，铊，钨等纯金属和合金薄层在VLSI制造中起着重要作用。这是由于这些金属及合金有着独特的属性。如对Si及绝缘材料有良好的附着力，高导电率，可塑性，容易制造，并容易与外部连线相连。纯金属薄层用于制作与工作区的连线，器件间的互联线，栅及电容、电感、传输线的电极等。铝（Al）在Si基VLSI技术中，由于Al几乎可满足金属连接的所有要求，被广泛用于制作欧姆接触及导线。随着器件尺寸的日益减小，金属化区域的宽度也越来越小，故连线电阻越来越高，其RC常数是限制电路速度的重要因素。要减小连线电阻，采用低电阻率的金属或合金是一个值得优先考虑的方法。铝合金在纯金属不能满足一些重要的电学参数、达不到可靠度的情况下，IC金属化工艺中采用合金。硅铝、铝铜、铝硅铜等合金已用于减小峰值、增大电子迁移率、增强扩散屏蔽，改进附着特性等。或用于形成特定的肖特基势垒。例如,稍微在Al中加少量的Si即可使Al导线上的缺陷减至最少，而在Al中加入少量Cu，则可使电子迁移率提高101000倍；通过金属之间或与Si的互相掺杂可以增强热稳定性。铜(Cu)因为铜的电阻率为1.7Wcm,比铝3.1Wcm的电阻率低,今后,以铜代铝将成为半导体技术发展的趋势.IBM公司最早推出铜布线的CMOS工艺,实现了400MHzPowerPC芯片.0.18m的CMOS工艺中几乎都引入了铜连线工艺.金与金合金由于GaAs与III/V器件及IC被应用于对速度与可靠性要求很高的行业，如电脑、通讯、军事、航空等。故对形成金属层所使用的金属有一定的限制。而GaAs、InP衬底的半绝缘性质及化学计量法是挑选金属时的附加考虑因素。由于离子注入的最大掺杂浓度为3·1018cm-3，故不能用金属与高掺杂的半导体（3·1019cm-3）形成欧姆接触。这个限制促使人们在GaAs及InP芯片中采用合金作为接触和连接材料。在制作N型GaAs欧姆接触时采用金与锗形成的低共熔混合物.所以第一第二层金属必须和金锗欧姆接触相容，因此有许多金合金系统得到应用。基于金的金属化工艺和半绝缘衬底及多层布线系统的组合有一个优点，即芯片上传输线和电感有更高的Q值。在大部分GaAsIC工艺中有一个标准的工序：即把第一层金属布线与形成肖特基势垒与栅极形成结合起来。实际上，多层布线系统如Ti/Pt/Au或Ti/Pd/Au同时被用于肖特基势垒。两层与多层金属布线VLSI至少采用两层金属布线。第一层金属主要用于器件各个极的接触点及器件间的部分连线，这层金属通常较薄，较窄，间距较小。第二层主要用于器件间及器件与焊盘间的互联，并形成传输线。寄生电容大部分由两层金属及其间的隔离层形成。多数VLSI工艺中使用3层以上的金属。最上面一层通常用于供电及形成牢固的接地。其它较高的几层用于提高密度及方便自动化布线。0.35umCMOS工艺的多层互联线2.2制造工艺简介氧化掩膜(Mask)和光刻刻蚀掺杂：热扩散、离子注入化学气相淀积(CVD)金属化1.氧化硅平面工艺中的隔离氧化层以及MOS器件中的删氧化层都是利用氧化工艺形成的。例如：一个MOS集成电路电路中，主要元件是PMOS,NMOS,R,C,L及连线。MOS是MetalOxideSemiconductorSilicon的缩写。MOS管有三种主要材料：金属、二氧化硅、硅。氧化分为：干氧化、湿氧化等注：这里的氧化指硅（Si）的氧化,形成SiO2通常将成批的硅圆片放入洁净的石英炉中，加热到800-1200℃，常压下将含氧气体（干氧气或水汽）从炉的一端流入并从另一端流出石英舟滑道炉膛氧化炉示意图2.掩膜(Mask)和光刻掩膜是用石英玻璃做成的均匀平坦的薄片，表面上涂一层600800Å厚的Cr层，使其表面光洁度更高。称之为铬板，Crmask。IC、Mask&Wafer掩膜制造：从物理上讲,任何半导体器件及IC是一系列互相联系的基本单元的组合,如导体,半导体及在基片上不同层上形成的不同尺寸的隔离材料等.要制作出这些结构需要一套掩膜。一个光学掩膜通常是一块涂着特定图案铬薄层的石英玻璃片，一层掩模对应一块IC的一个工艺层。工艺流程中需要的一套掩膜必须在工艺流程开始之前制作出来。制作这套掩膜的数据来自电路设计工程师给出的版图。3种掩膜制作方法：图案发生器方法、X射线制版、电子束扫描法(E-BeamScanning).电子束光刻装置:LEICAEBPG5000+功能：制造掩膜和直写光刻光刻：在IC的制造过程中，光刻是多次应用的重要工序。其作用是把掩膜上的图型转换成晶圆上的器件结构。掩膜图形的形成过程：涂敷光刻胶-预烘-曝光-显影-坚膜-刻蚀-去除抗蚀剂wafermask光源光刻工艺流程:（1）涂敷光刻胶：清洗晶圆，在200C温度下烘干1小时。目的是防止水汽引起光刻胶薄膜出现缺陷。待晶圆冷却下来，立即涂光刻胶。•光刻胶有两种：正性(positive)与负性(negative)。正性胶显影后去除的是经曝光的区域的光刻胶，负性胶显影后去除的是未经曝光的区域的光刻胶。•正性胶适合作窗口结构,如接触孔,焊盘等，而负性胶适用于做长条形状如多晶硅和金属布线等。•光刻胶对大部分可见光灵敏，对黄光不灵敏，可在黄光下操作。（2）预烘：将溶剂蒸发掉，准备曝光(照射)光刻胶通过过滤器滴入晶圆中央，被真空吸盘吸牢的晶圆以20008000转/分钟的高速旋转，从而使光刻胶均匀地涂在晶圆表面。涂光刻胶的方法正性胶与负性胶光刻图形的形成（过程包含刻蚀）（3）曝光:光源可以是可见光,紫外线,X射线和电子束。光量，时间取决于光刻胶的型号，厚度和成像深度。（4）显影:晶圆用真空吸盘吸牢，高速旋转，将显影液喷射到晶圆上。显影后，用清洁液喷洗。（5）坚膜:即烘烤，将显影液和清洁液全部蒸发掉。最小线宽：这是光刻系统所能加工的极限，如果工艺和设备没有更新，很难超越这一极限。代表集成电路发展水平的主要指标之一。如：CPU所使用的0.09μm工艺。3.刻蚀经过涂胶、曝光、显影等工艺步骤在光刻胶上形成了所需的图形后，就可以利用这层光刻胶作为屏蔽掩膜对其下面的材料进行选择性腐蚀。刻蚀的作用:制作不同的器件结构，如线条、接触孔、台式晶体管、凸纹、栅等。被刻蚀的材料:半导体，绝缘体，金属等。刻蚀的两种方法：湿法（早期工艺）和干法4.掺杂在衬底材料上掺入五价或三物质，以改变半导体材料的电性能。掺杂过程是由硅的表面向体内作用的。涂胶显影刻蚀去胶掺杂参杂在半导体工艺中的位置：掺杂的目的是以形成特定导电能力的材料区域,包括N型或P型半导体层和绝缘层。是制作各种半导体器件和IC的基本工艺。经过掺杂，原材料的部分原子被杂质原子代替。材料的导电类型决定于杂质的化合价掺杂可与外延生长同时进行，也可在其后，例如，双极性硅IC的掺杂过程主要在外延之后，而大多数GaAs及InP器件和IC的掺杂与外延同时进行。主要两种掺杂方式：热扩散和离子注入。热扩散：是最早也是最简单的掺杂工艺，主要用于Si工艺。施主杂质用P，As，Sb，受主杂质可用B。要减少少数载流子的寿命，也可掺杂少量的Au。Si02隔离层常被用作热扩散掺杂的掩膜。扩散过程中，温度与时间是两个关键参数。在生产双极型硅IC时，至少要2次掺杂，一次是形成基区，另一次形成发射区。在基片垂直方向上的掺杂浓度变化对于器件性能有重要意义。离子注入技术:20世纪50年代开始研究，70年代进入工业应用阶段的。随着VLSI超精细加工技术的进展，现已成为各种半导体搀杂和注入隔离的主流技术。离子注入机：5.化学气相淀积(CVD)定义：指使一种或数种物质的气体，以某种方式激活后，在衬底发生化学反应，并淀积出所需固体薄膜的生长技术。其英文原名为“ChemicalVapourDeposition”，简称为“CVD”。分类：低压化学气相淀积（LPCVD）、等离子增强化学气相淀积（PECVD）、金属有机物化合气相淀积（MOCVD）等。作用:(1)形成二氧化硅层。如，硅圆片后期工艺中已经生长了Al，不能再承受高温进行氧化，就可以用CVD形成SiO2层.(2)各种薄膜材料的制备，如多晶硅、氮化硅、无定形非晶硅薄膜的淀积等。6.金属化在晶圆片上得到大量相互隔离且相互不相连的半导体器件之后，下一步就是要将这些器件连接起来构成一个完整的集成电路。通常把这一工艺叫金属化。金属层的制作方法主要有：蒸发、溅射和电镀。金属连线可以有多层，因而有多次金属化过程，上下两层金属之间用SiO2隔离（用CVD形成）。在需要连接上下金属层的位置用光刻和刻蚀方法在SiO2层上打孔连接。2.3双极集成电路制造工艺典型的双极性硅工艺：NPN三极管p+p+n+n-pn+n+p-SiO2BECBuriedLayerMetalpn-Isolationpn-Isolation主要工艺步骤：1.衬底选择2.第一次光刻－－N＋隐埋层扩散孔光刻3.外延层淀积4.第二次光刻－－P＋隔离扩散孔光刻5.第三次光刻－－P型基区扩散孔光刻6.第四次光刻－－N+发射区扩散孔光刻7.第五次光刻－－引线接触孔光刻8.第六次光刻－－金属化内连线光刻先进的双极性硅工艺：NPN三极管2.4MOS集成电路制造工艺认识MOSFETGateDrainSourcen+n+LeffLDrawnLDp-substrateSGDPolyOxideE-NMOS的结构示意图D-NMOS的结构示意图NMOS工艺流程