40kW中频脉冲溅射电源设计

大连海事大学硕士学位论文40kW中频脉冲溅射电源设计姓名：王礼庆申请学位级别：硕士专业：电力电子与电力传动指导教师：樊印海2009070140kW中频脉冲溅射电源设计作者：王礼庆学位授予单位：大连海事大学相似文献(10条)1.期刊论文杨晓东.柳森娟.刘锋敏.YANGXiao-dong.LIUSen-juan.LIUFeng-min基于工控机和PLC的真空磁控溅射镀膜设备控制系统设计-科技情报开发与经济2009,19(31)磁控溅射镀膜技术在薄膜制备领域广泛应用,控制系统的设计对磁控溅射镀膜设备的稳定运行有着重要的影响.介绍了基于嵌入式一体化工控机和PLC的真空磁控溅射镀膜设备电气自动控制系统的硬件构成、系统原理、系统功能,论述了其设计思路及方法,并重点叙述了OMRONCJ系列PLC在控制系统中的应用.2.期刊论文魏海波.孙清.张君薇.池世春.WEIHai-bo.SUNQing.ZHANGJun-wei.CHIShi-chun卷绕式海绵材料真空磁控溅射镀膜设备的研制-真空2007,44(4)本文介绍了海绵卷绕真空磁控溅射镀膜设备的结构及其特点,采用独特的传动机构,靶极结构及控制方式实现了海绵连续卷绕真空磁控溅射镀膜.3.期刊论文宋青竹.张以忱.孙足来.张峻豪.陈旺.SONGQing-zhu.ZHANGYi-chen.SUNZu-lai.ZHANGJun-hao.CHENWang磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法-真空2010,47(6)镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性问题是实际生产中十分关注的.本文在现有的理论基础之上,对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究,系统的建立可以采用整体到部分,再到整体这一动态设计理念,不断完善设计方法,并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分.镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计及二者的数值仿真这三者之间是相辅相成的,镀膜设备工程设计决定镀膜工艺过程的实现,镀膜工艺促进镀膜设备的升级,而高性能的计算机仿真设计给两者的设计提供了强有力的支持.4.会议论文佟本德太阳能集热管镀膜设备与工艺19895.会议论文张以忱.张峻豪.宋青竹磁控溅射膜厚均匀性设计方法2009镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性问题是实际生产中十分关注的。本文在现有的理论基础之上,对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究,系统的建立可以采用“整体到部分,再到整体”这一动态设计理念,不断完善设计方法,并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分。镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计及二者的数值仿真这三者之间是相辅相成的,镀膜设备工程设计决定镀膜工艺过程的实现,镀膜工艺促进镀膜设备的升级,而高性能的计算机仿真设计给两者的设计提供了强有力的支持。6.期刊论文程建平.杨晓东.CHENGJianping.YANGXiaodong真空磁控溅射镀膜设备及工艺技术研究-电子工业专用设备2009,38(11)磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用,适合的工艺和制造技术对磁控溅射镀膜有着重要的影响.介绍了用于薄膜电路的生产工艺流程以及由此而决定的设备组成及控制技术,并重点叙述了薄膜制备的方法、参数选择、设备设计方法.7.学位论文房伟FJL560CI1型真空镀膜机控制系统开发2007真空镀膜机是电子工业器件生产和研制过程中广泛使用的设备。随着计算机技术、自动化技术和通信技术的迅速发展，生产自动化也越来越多地在工业生产过程中得到了应用。特别是近几年来，随着工控技术的迅速发展，各种新型的控制系统不断出现，在现代工业控制领域发挥巨大作用。随着镀膜技术不断在工业上的应用，镀膜设备实现计算机自动控制是一个必然趋势。经过研究：FJL560CI1型真空镀膜机的被检测对象和被控量不是很多，所以在这里对FJL560CI1型真空镀膜机控制系统采用现在应用非常广泛的小型控制系统即基于个人计算机控制系统(PCs)。本系统主要用于监控两套镀膜设备，一套是磁控溅射镀膜设备，另一套是离子束溅射设备。本控制系统温度的控制采用具有通讯功能智能化的FP93温度表；模拟量的采集利用工业控制计算机与研华PCL-818HG数据采集卡；模拟量输出控制采用工业控制计算机与研华ADAM智能工业模块；开关量和步进电机驱动器的控制采用具有数字量输入输出功能和脉冲输出功能的PCL-818HG数据采集卡。工控系统软件的设计是在WindowsXP环境下，采用VISUALBASIC6.0编程，利用其中的通讯控件、数据库等相关控件和技术开发了以下功能：(1)现场设备的控制：(2)现场实时监测数据以及图形显示；(3)各种数据的存储及数据查询；(4)系统的远程监控。8.期刊论文张文刚JPD-1200型矩形双平面磁控溅射阴极镀膜设备的研制-真空2004,41(5)介绍了设备的结构、组成及工作过程,对新型矩形双平面磁控溅射阴极及有关的各阴极进行了分析、比较.9.学位论文张健多弧与磁控技术制备TiN薄膜在压缩机工件中的应用研究2007本课题研究的TiN涂层具有高硬度、低摩擦系数、高粘着强度、化学稳定性好和与钢铁材料的热膨胀系数相近等优点，而被应用于机械、材料等领域。本论文应用磁控和多弧溅射方法，主要研究在压缩机曲轴和叶片工件基体上制备了TiN硬质薄膜，代替传统的涂磷、涂钼方法来提高工件的寿命，降低工艺成本。对于曲轴膜层的制备选取多弧溅射方法，采用沈阳真空三厂研制的多弧镀膜设备，做了大量试验性实验以了解设备及研究工艺影响，如偏压、气压、弧电流对TiN膜层的影响，而后选取理想的工艺对曲轴进行表面硬度强化。对于叶片膜层，同时选取了多弧与磁控两种方法。就磁控而言，采用东北大学流体机械实验室多功能镀膜设备，研究了中频、射频、直流电源的工作特点、靶距、气压、工作气体比例、温度对磁控方法制备TiN膜层的影响。通过大量实验及研究，最终选取Ti/TiN这种既能提高膜/基结合力又能达到高硬度的结构，在叶片表面进行表面硬度强化。在研究过程中，利用光学显微镜对膜层表面形貌进行了观察。利用X射线衍射仪(XRD)对表面膜层的相结构进行了分析。同时也检测了膜层表面的粗糙度、硬度、厚度。同时利用三洋公司的实验设备进行了1000小时连续工作的耐磨实验分析。结果表明，多弧与磁控方法制备的TiN涂层具有较好的表面性能和机械性能。虽然在制冷量、能效比上数值有所降低，功率有所升高，原因主要是膜层的均匀性及表面粗糙度的问题。但就振动、噪声、转数上体现较好的效果。总体来讲满足了曲轴和叶片的工作环境，强化了工件的耐磨能力，提高了工件的使用寿命。此外，本文分析了多弧与磁控方法制备TiN膜层的各自特点，就膜层形貌、粗糙度、沉积速率、硬度及耐磨实验等方面进行了分析对比。就压缩机工件曲轴和叶片得到了他们较理想的工艺参数组合。10.期刊论文刘翔宇.赵来.许生.范垂祯.查良镇磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计-真空2003(4)磁控溅射已发展为工业镀膜生产中最主要的技术之一.对在镀膜批量生产中普遍存在的靶材利用率、溅射速率和沉积速率低以及溅射过程不稳定等突出问题,固然可用优化电源设计和调整工艺参数等加以改善,但根本的问题在于整个系统,特别是靶的优化设计.本文简要评述了已有靶的典型设计及其特点;对靶分析和设计的通行方法,包括电磁场有限元、等离子体粒子模型及流体模型、以及设计过程中其它一些需要注意的问题作了讨论.鉴于国内目前在靶的分析设计方面与国际先进水平之间还存在着比较大的差距,希望能够引起有关方面的重视.本文链接：授权使用：北京工商大学(btbu)，授权号：873d8faf-20aa-4b50-8190-9ed40143615e下载时间：2011年4月29日