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1Full-custom设计系统环境完整的Full-custom设计环境包含设计资料库-CadenceDesignFrameworkII-电路编辑环境-Texteditor/Schematiceditor–电路仿真工具–Spice/ADS/Spectre–版图设计工具-Cadencevirtuoso/(Ledit)–版图验证工具–Diva/Assura/Calibre/dracula系统环境–工作站与unix-based操作系统–PC与windows操作系统（非主流）2•与Cadence有关的几个重要文件•.cshrcshell环境设定执行档•.cdsinitCadence环境设定档•cds.libCadence环境资料库路径设定档•display.drfCadenceLayouteditor颜色图•样设定档•Technologyfile包含与工艺相关的参数345原理图编辑与仿真流程1.建库2.建底层单元3.电路图输入4.设置电路元件属性5.Check&Save6.生成symbol6一、建立自己的library,cell和viewLibrary自己将要设计的版图所要存放的库Cell设计的每一模块单元View单元的格式，有schematic,symbol,layout等1.建库7•在自己的目录下启动Cadence:icfb&•选择CIW中的菜单：File-New-Library…•指定库名、路径和工艺文件•或直接利用前面已经建好的library:lab891011121314新建一个库文件2.创建基本单元15库名定义为mydesign1，然后连接到所需要的库中(gpdk)16•选择CIW中的File-New-•CellView…•选择libraryname:•输入cellname:inverter•选择Tool:Composer-•schematic，这时Viewname•自动变为:schematic•按OK进入schematiceditor17新建一个cell，用来制作反相器18193.电路图输入20利用Add-instance添加元件，添加一个pmos21修改长度为350nm，宽为1um22同样生成一个nmos，长350nm，宽500nm234.定义元件属性2425Wire连接•单击wire(narrow)按钮•鼠标单击选中起始点；•再点击鼠标选中第二点；•双击——画出终点；•Wire(wide)的绘制方法与此相同，二者无本•质区别。26添加wirename•点击wirename按钮•输入节点名•点击目标wire，放置•Wirename相当于给•节点命名，同名节•点被认为是一个电•气节点。27基本编辑操作•复制/移动：点击工具栏复制/移动按钮或按“c”/“m”；–单击操作对象，该对象就会粘到鼠标指针上，如果想把几个对象作为一个整体一起移动，则要先选中所有操作对象；再次单击一下鼠标，放置对象。•删除：点击delete按钮或按“d”，选中要删除的对象；28基本编辑操作•Undo：点击Undo按钮或按“u”；•改变编辑模式：在按过功能按钮后系统会保持相应的编辑状态，因此可以连续操作。•模式切换：按其它按钮•退出当前模式：按Esc键。•查看、更改属性：点击”Instanceproperties”按钮或按“q”29生成以后进行连线，添加IO口之后得到如下图305.电路检查与保存•点击check&save按钮•错误内容：CIW窗口会显示错误说明。•常见的错误有：节点悬空、输出短路、输入开路316.自动创建symbol•选择COMPOSER的菜单：Design-CreateCellview-FromCellview…•弹出窗口中已自动设置好library:cellview，检查无误OK32自动创建symbol•设置PIN的名字和位置33修改symbolview34二版图编辑与验证•–建新的designlibrary：lab••点击FileÆnewÆlibrary弹出newlibrary窗口••在name框键lab，右边选attachtoanexistingtechfile••在弹出的窗口中选工艺库:chrt35rf•–在lab下建立一个cellview：inv:layout••点击FileÆnewÆcellview弹出createnewfile窗口••Libraryname:lab;cellname:inv;tool:选virtuoso1.新建一个library/cell/view35进入XL进行编辑3637在virtuoso中使用genfromsource命令生成器件，IO口修改为第一层金属，然后apply3839点OK之后出现下图进行display设置40修改displaylevels和单元间距然后就可以对器件进行放置，连线等OK41设置一个命令，此后每当你选择一个命令之后都会弹出一个菜单，根据需要可以修改相应的参数。42使用path命令弹出一个菜单，要连接栅极选择GT，修改宽度0.3543点击要连线的地方：44最后得到的反相器版图452.版图编辑操作•选取版图的层•–矩形(recangle)、线(path)•–标尺(ruler)的使用•–图形尺寸调整(stretch)•–图形的移动和旋转•–图形的复制，删除•–图形属性修改46版图编辑操作•图形的合并(merge)•–加contact（四种，三种接触孔，一种过孔）•–定义multipath•–加Pin•–调用已画单元(cell)•–注意热键的使用•–注意ESC的使用47•f:全景图ctrl＋z：放大shift＋z：缩小•shift＋f：详细版图（非symbol）u：undo•w：上一界面i：调用器件•q：看属性r：画矩形•p：固定长度的可折线l：lable标注端口、电源、地等。所标识的金属层，用该层TEXT层标识。如，M6层金属则选择M6TEXT层。•s:拉伸收缩•Shift＋C：把线断开（注意：先选中线，再操作）•Shift＋M:merge（同上，先选中线）•k：标尺•shift＋k：取消标尺•shift+x:进入调用器件的下层•shift＋b：返回上层•在ICFB窗口的OPTIONS里选择USERPREFERENCES，改变undo次数。483.版图验证•由于加工过程中的一些偏差，版图设计需满足•工艺厂商提供的设计规则要求，以保证功能正•确和一定的成品率•–DRC：Designrulecheck49作业•1建立一个工作目录，姓名学号简称，然后进入该工作目录•2将display.drf拷到工作目录下。•3用Vi编写cds.lib加入INCLUDE•4启动ic5141•5在工作目录下新建一个库并用gpdk工艺,用最小尺寸做一个cell名为inv,画一个反相器•6生成symbol•7再做一个cell为invtest加入电源、地和vpulse（周期为1ns)•8仿真看瞬态波形5ns。•9打开inv生成layout•10用DRC检查直到error为0.•写实验报告，电子版。内容包括实验名称、实验内容、实验结果包括（电路图、symbol、测试电路、仿真结果（输入输出信号的波形）、版图、DRC报告（错误图及说明（中文）、修改结果）