ETD-900型离子溅射仪使用说明书

1ETD-900型离子溅射仪使用说明书目录一.离子溅射仪的工作原理和组成二.离子溅射仪的一般操作步骤三.基本参数四.经验分享2一.离子溅射仪的工作原理和组成（参考图1）离子溅射仪的工作原理是在一个较低真空的腔体内，在负电极和正电极之间加载几百伏特以上的电压，产生辉光放电，在电场的作用下加速正离子轰击靶电极（负极），引起靶中原子溅射，在样品上形成一层簿膜。溅射原子的平均能量是10eV，所以会产生很大的热量，请注意被镀材料特性，是否需要采取特殊的防护方法，使样品不被灼伤。其基本组成和作用如下：1.上盖：密闭样品真空室；2.上部电极：安装镀膜材料的装置（负极）；3.样品台：固定被镀样品的装置（阳极）；4.定时选择开关(TIME-SECONDS)：旋转此开关，设置镀膜时间。注意：定时器有三种状态：停止、暂停和运行；5.电源开关（STARTPUMP）：搬动此开关，确定设备工作状态；6.手动开关(SETPLASMA)：按下此开关，测试溅射电流强弱。在定时器工作期间不起作用；7.启动开关(STARTPROCESS)：按触此开关，启动定时器及加载溅射电压。如果在溅射期间，发生过流保护，再次加载溅射电压时，需要再次按触此开关；38.微调进气阀门(LEAK)：旋转此钮，控制样品真空室中的真空度，调整溅射电流。可以通入多种气体；9.限流指示灯(CURRENLIMIL)：此灯亮起，提示当前若加载溅射电压将过载；10.电流指示表(PROCESSCURRENT)：显示当前电离电流值；11.真空指示表(CHAMBERPRESSURE)：显示当前设备的真空度；二.离子溅射仪的一般操作步骤1.放置样品，合上上盖；2.选择溅射时间；3.打开电源开关（STARTPUMP）。观察真空指示表(CHAMBERPRESSURE)。当真空度到达4×10⁻2托，可以调整“微调进气阀”(LEAK)降低真空度到适合的值；4.触按“启动开关”(STARTPROCESS)。可以听到定时器发出的计时音，看到样品室中发出的辉光；5.观察电流表指示(PROCESSCURRENT)，根据需要调整“微调进气阀门”(LEAK)提高或降低电离电流；6.计时归零，发出结束提示音。三.基本参数主机规格：长360mm，高300mm，深380mm真空室：直径：160mm，高：120mm上部电极：靶直径：50mm，厚度：0.1mm，靶材料标准配置：金溅射面积：Ф50mm，最高真空度：≤4X10-2mbar离子电流：50mA(最大)镀膜时间：5秒至3600秒，9档气体控制：微调进气阀，可连接φ3mm软管，通入气体，调节真空度和溅射电流最高电压：-1200V机械泵：标准配置2L/S4四.经验分享1.真空度与溅射电流：不同的真空度下，溅射电流产额不同（参考图表）。2.溅射时间与膜厚：相同的溅射时间里，不同的溅射电流，成膜速度不同。结论：欲在单位时间内形成较厚的膜，真空度尽可能要低。欲获得颗粒度较小的膜，溅射时间尽可能短。欲获得较牢固的膜，溅射电流尽可能大。注意：二极DC溅射，靶的温度上升较快，非冷却溅射头不宜长时间加电工作（最好不超过15分钟），在一定的高温下，溅射电流会随着温度的升高而衰减，降低溅射效率，甚至为零。