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高阻外延层电阻率均匀性控制技术分析作者：殷海丰，傅颖洁，陈涛作者单位：中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220刊名：甘肃科技英文刊名：GansuScienceandTechnology年，卷(期)：2012,28(14)参考文献(3条)1.杨树人;丁墨元外延生长技术19922.袁肇耿;赵丽霞肖特基器件用重掺As衬底上外延层过渡区控制20093.刘玉岭;檀柏梅微电子技术工程一材料、工艺与测试2004本文链接：
