CN2017208435481一种用于污水处理的一体化氧化沟公开号207061976U

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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)实用新型专利(10)授权公告号(45)授权公告日(21)申请号201720843548.1(22)申请日2017.07.12(73)专利权人上海三乘三备环保工程有限公司地址201620上海市松江区广富林路600弄1号2121室(72)发明人张子刚 (74)专利代理机构上海宣宜专利代理事务所(普通合伙)31288代理人刘君(51)Int.Cl.C02F3/12(2006.01)(54)实用新型名称一种用于污水处理的一体化氧化沟(57)摘要本实用新型公开了一种用于污水处理的一体化氧化沟,包括池体和固定安装在所述池体内侧底面中部的中心岛,所述池体侧面设置有进水管、排泥管和排水管,所述中心岛内设置有保温箱、电磁阀、处理器、上位机和电池,所述池体和所述中心岛之间形成一环形槽,所述环形槽内壁上设置有转轴和温度传感器,所述转轴上设置有盖板,所述盖板上开设有凹槽,所述盖板包括盖板一和盖板二。有益效果在于:该一体化氧化沟加装有所述保温箱和所述盖板,可向污水中注入冷水和空气,从而增加溶氧量,有效解决传统氧化沟存在的污泥膨胀问题,操作简便,实用性好。权利要求书1页说明书3页附图2页CN207061976U2018.03.02CN207061976U1.一种用于污水处理的一体化氧化沟,包括池体和固定安装在所述池体内侧底面中部的中心岛,其特征在于:所述池体侧面设置有进水管、排泥管和排水管,所述中心岛内设置有保温箱、电磁阀、处理器、上位机和电池,所述池体和所述中心岛之间形成一环形槽,所述环形槽内壁上设置有转轴和温度传感器,所述转轴上设置有盖板,所述盖板上开设有凹槽,所述盖板包括盖板一和盖板二。2.根据权利要求1所述的一种用于污水处理的一体化氧化沟,其特征在于:所述进水管和所述排泥管固定安装在所述池体的一侧,所述排水管则固定安装在所述池体的另一侧,其中,所述进水管、所述排水管和所述排泥管均与所述环形槽连通。3.根据权利要求1所述的一种用于污水处理的一体化氧化沟,其特征在于:所述保温箱镶嵌在所述中心岛内侧中部,所述电磁阀镶嵌在所述中心岛内部边缘处,其数量至少有一个,其中,每一个所述电磁阀均通过管道与所述保温箱内部和所述环形槽连通。4.根据权利要求1所述的一种用于污水处理的一体化氧化沟,其特征在于:所述温度传感器数量至少有一个,均匀分布在所述环形槽的内壁上,所述处理器与所述温度传感器电连接,所述上位机与所述处理器和所述电磁阀电连接。5.根据权利要求1所述的一种用于污水处理的一体化氧化沟,其特征在于:所述转轴数量至少有一个,均匀分布在所述环形槽的内壁上,其中,相邻两个所述转轴之间的距离相等。6.根据权利要求1所述的一种用于污水处理的一体化氧化沟,其特征在于:每一个安装在所述环形槽前后端的所述转轴上均安装有所述盖板二,所述盖板二为方形盖板,其正面开设有所述凹槽,每一个所述转轴上安装有四个所述盖板二,且该四个所述盖板二以所述转轴为中心呈中心对称分布。7.根据权利要求1所述的一种用于污水处理的一体化氧化沟,其特征在于:每一个安装在所述环形槽两端的所述转轴上均安装有所述盖板一,所述盖板一为弧形板,其正面也开设有所述凹槽,每一个所述转轴上安装有四个所述盖板一,且该四个所述盖板一以所述转轴为中心呈中心对称分布。8.根据权利要求1所述的一种用于污水处理的一体化氧化沟,其特征在于:所述保温箱上表面上还开设有注水孔,所述注水孔内镶嵌有密封塞,所述密封塞铰接在所述保温箱上表面上。权 利 要 求 书1/1页2CN207061976U2一种用于污水处理的一体化氧化沟技术领域[0001]本实用新型涉及污水处理领域,特别是涉及一种用于污水处理的一体化氧化沟。背景技术[0002]氧化沟是一种活性污泥处理系统,其曝气池呈封闭的沟渠型,所以它在水力流态上不同于传统的活性污泥法,它是一种首尾相连的循环流曝气沟渠,又称循环曝气池。氧化沟具有功能丰富、污泥稳定、出水水质好和易于管理等优点,因此在污水处理领域应用十分广泛,但是,传统的氧化沟在实际使用过程中仍存在一些问题。比如传统的氧化沟在实际使用过程中经常出现污泥膨胀问题,究其原因,是由于当废水中的碳水化合物较多,N、P含量不平衡,pH值偏低,氧化沟中污泥负荷过高,溶解氧浓度不足,温度较高,排泥不畅等引发丝状菌性污泥膨胀引起的,针对上述情况,可以设计一种用于污水处理的一体化氧化沟来解决上述问题。实用新型内容[0003]本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于污水处理的一体化氧化沟。[0004]本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:[0005]一种用于污水处理的一体化氧化沟,包括池体和固定安装在所述池体内侧底面中部的中心岛,所述池体侧面设置有进水管、排泥管和排水管,所述中心岛内设置有保温箱、电磁阀、处理器、上位机和电池,所述池体和所述中心岛之间形成一环形槽,所述环形槽内壁上设置有转轴和温度传感器,所述转轴上设置有盖板,所述盖板上开设有凹槽,所述盖板包括盖板一和盖板二。[0006]为了进一步提高用于污水处理的一体化氧化沟的实用性,所述进水管和所述排泥管固定安装在所述池体的一侧,所述排水管则固定安装在所述池体的另一侧,其中,所述进水管、所述排水管和所述排泥管均与所述环形槽连通。[0007]为了进一步提高用于污水处理的一体化氧化沟的实用性,所述保温箱镶嵌在所述中心岛内侧中部,所述电磁阀镶嵌在所述中心岛内部边缘处,其数量至少有一个,其中,每一个所述电磁阀均通过管道与所述保温箱内部和所述环形槽连通。[0008]为了进一步提高用于污水处理的一体化氧化沟的实用性,所述温度传感器数量至少有一个,均匀分布在所述环形槽的内壁上,所述处理器与所述温度传感器电连接,所述上位机与所述处理器和所述电磁阀电连接。[0009]为了进一步提高用于污水处理的一体化氧化沟的实用性,所述转轴数量至少有一个,均匀分布在所述环形槽的内壁上,其中,相邻两个所述转轴之间的距离相等。[0010]为了进一步提高用于污水处理的一体化氧化沟的实用性,每一个安装在所述环形槽前后端的所述转轴上均安装有所述盖板二,所述盖板二为方形盖板,其正面开设有所述凹槽,每一个所述转轴上安装有四个所述盖板二,且该四个所述盖板二以所述转轴为中心说 明 书1/3页3CN207061976U3呈中心对称分布。[0011]为了进一步提高用于污水处理的一体化氧化沟的实用性,每一个安装在所述环形槽两端的所述转轴上均安装有所述盖板一,所述盖板一为弧形板,其正面也开设有所述凹槽,每一个所述转轴上安装有四个所述盖板一,且该四个所述盖板一以所述转轴为中心呈中心对称分布。[0012]为了进一步提高用于污水处理的一体化氧化沟的实用性,所述保温箱上表面上还开设有注水孔,所述注水孔内镶嵌有密封塞,所述密封塞铰接在所述保温箱上表面上。[0013]有益效果在于:该一体化氧化沟加装有所述保温箱和所述盖板,可向污水中注入冷水和空气,从而增加溶氧量,有效解决传统氧化沟存在的污泥膨胀问题,操作简便,实用性好。附图说明[0014]图1是本实用新型所述一种用于污水处理的一体化氧化沟的结构示意图;[0015]图2是本实用新型所述一种用于污水处理的一体化氧化沟的内部结构图;[0016]图3是本实用新型所述一种用于污水处理的一体化氧化沟的盖板的安装示意图。[0017]附图标记说明如下:[0018]1、池体;2、进水管;3、排泥管;4、排水管;5、中心岛;6、保温箱;7、注水孔;8、密封塞;9、转轴;10、盖板一;11、盖板二;12、电磁阀;13、环形槽;14、凹槽;15、温度传感器;16、上位机;17、处理器;18、电池。具体实施方式[0019]下面结合附图对本实用新型作进一步说明:[0020]如图1-图3所示,一种用于污水处理的一体化氧化沟,包括池体1和固定安装在池体1内侧底面中部的中心岛5,池体1侧面设置有进水管2、排泥管3和排水管4,中心岛5内设置有保温箱6、电磁阀12、处理器17、上位机16和电池18,保温箱6用于存储冷水,电磁阀12用于控制保温箱6内的冷水流入环形槽13内,处理器17用于处理温度传感器15传递的检测数据并将处理后的数据信息传递给上位机16,上位机16根据该数据信息控制电磁阀12动作,当温度传感器15检测到环形槽13内的水温超过上位机16内预设的标准值时,上位机16根据该水温信息控制电磁阀12打开,保温箱6内的冷水便经电磁阀12流入环形槽13内并与环形槽13内的污水混合,当温度传感器15检测到的环形槽13内的水温值低于上位机16内预设的标准值,上位机16根据该水温信息控制电磁阀12关闭,池体1和中心岛5之间形成一环形槽13,环形槽13内壁上设置有转轴9和温度传感器15,转轴9用于安装固定盖板,温度传感器15用于检测环形槽13内污水的水温,转轴9上设置有盖板,盖板随着污水的流动而转动,当污水流经盖板时,推动盖板绕转轴9旋转,盖板上开设有凹槽14,凹槽14用于存储空气,当盖板由空气旋转进入水中时,凹槽14内的空气会被水阻隔并随盖板一10起进入污水中,空气中的氧便融入水中,从而增加污水中的溶解氧浓度,通过向污水中注入冷水和增加溶氧量,可有效解决传统氧化沟存在的污泥膨胀问题,盖板包括盖板一10和盖板二11。[0021]为了进一步提高用于污水处理的一体化氧化沟的实用性,进水管2和排泥管3固定安装在池体1的一侧,排水管4则固定安装在池体1的另一侧,其中,进水管2、排水管4和排泥说 明 书2/3页4CN207061976U4管3均与环形槽13连通,保温箱6镶嵌在中心岛5内侧中部,电磁阀12镶嵌在中心岛5内部边缘处,其数量至少有一个,其中,每一个电磁阀12均通过管道与保温箱6内部和环形槽13连通,温度传感器15数量至少有一个,均匀分布在环形槽13的内壁上,处理器17与温度传感器15电连接,上位机16与处理器17和电磁阀12电连接,转轴9数量至少有一个,均匀分布在环形槽13的内壁上,其中,相邻两个转轴9之间的距离相等,每一个安装在环形槽13前后端的转轴9上均安装有盖板二11,盖板二11为方形盖板,其正面开设有凹槽14,每一个转轴9上安装有四个盖板二11,且该四个盖板二11以转轴9为中心呈中心对称分布,每一个安装在环形槽13两端的转轴9上均安装有盖板一10,盖板一10为弧形板,其正面也开设有凹槽14,每一个转轴9上安装有四个盖板一10,且该四个盖板一10以转轴9为中心呈中心对称分布,保温箱6上表面上还开设有注水孔7,注水孔7内镶嵌有密封塞8,密封塞8铰接在保温箱6上表面上。[0022]以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其效物界定。说 明 书3/3页5CN207061976U5图1图2说 明 书 附 图1/2页6CN207061976U6图3说 明 书 附 图2/2页7CN207061976U7

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