搜索
IonpureCEDI系统采用CEDI(连续电去离子)系统作为后端对RO产水进行深度去离子。此系统的核心部件为IONPURELX45Z膜堆–一种比传统混床更先进的技术，它内部的离子交换树脂被加在两端的电流连续的再生，不需要任何化学药品。自从1987年，西门子Ionpure在全球第一个将CEDI工业化以来，它已经被广泛的应用于电力、制药、电子和食品饮料等各个领域。IonpureCEDICEDI是主要由离子交换树脂、离子交换膜和电源三部分组成的去离子技术。西门子Ionpure的CEDI可以看作是三个过程：1)进水–水进到一系列交替分布的淡水室和浓水室（包括两端的极水室）。一部分水进到淡水室，另一部分进到浓水室和极水室。离子交换树脂和传统的离子交换工艺一样接受了离子，产生了离子的迁移。2)去除离子–在CEDI中,离子交换树脂主要起离子迁移通道的作用，交换容量不是主要的。在加在两端的直流电场的作用下，使阴阳离子分别透过具有选择透过性的阴离子交换膜和阳离子交换膜后进入到相邻的浓水室，随浓水流带走。浓水流可以排掉或回收到RO前。3)再生–当淡水室的水变得越来越纯的时候，树脂将起一个媒介作用，使H2O2分子在电肠作用下，分裂成H+和OH-来再生阴阳树脂。这使得LX45Z膜堆可以在运行的情况下，就能够连续的再生自己，这也是为什么它不需要象传统混床那样加HCl和NaOH再生的原因。产品特点：作为真正的免化学药品的生产高/超纯水技术，西门子IonpureLX45ZCEDI的优点有：连续运行，不需要停机淡水室和浓水室都填充树脂。避免了浓水循和加盐，是真正的免化学药品的绿色技术。高强度的厚隔板和双O型圈密封，保证不泄漏系统组成最简单，管路两进两出，设计工作量小，安装和运行维护最方便更低的运行成本更好的抗污染性能，清洗频率低单个膜堆产水量大，整个系统所需的膜堆数量少，管道和电力接头少，系统集成成本低极水可以和浓水一起回到RO前面回收，整个系统的回收率几乎是100%拥有全球和全国已运行的最大、最多的业绩LX-45Z膜堆规格：单个膜堆设计流量5-7.76t/h制造商西门子原产地美国型号LX45Z允许进水压力7公斤最高运行水温45°C淡水进/出接口1¼”BSP外螺纹/O-型圈密封浓水进/出借口¾”BSP外螺纹/O-型圈密封膜堆尺寸L：880.4mmC:747.7mm进水要求*参数:进水水源RO产水进水当量电导率，包括CO240µS/cmSiO21ppmFe,Mn,S0.01ppm总氯0.02ppm硬度1.0ppm溶解性的有机物0.5ppm运行的pH4–11运行水温41–113oF(5–45C)进水压力100psi(7bar)启停和运行控制步序说明：下述内容是在下面的P&ID示意图基础上所编写，若实际系统与下图不同，则控制步序可能会存在差异，应以实际系统为准。一，图例说明项目说明备注阀门HV1产水室进水手动阀常开HV2产水室出水手动阀HV3浓水室进水手动阀HV4浓水室出水手动阀AV1自动阀AV2自动阀AV3自动阀可选（采用变频泵或电动慢开门能使系统运行更稳定）SV1进水取样阀SV2产水取样阀SV3浓水取样阀压力表PI1产水室进水压力表就地压力表，监测产水室进出水压力降PI2产水室出水压力表PI3浓水室进水压力表就地压力表，监测浓水室进出水压力降PI4浓水室出水压力表流量表计FE流量探头/流量计FI流量显示FAL流量报警水质表计AE探头（电导/电阻，硅表等）AI显示电源SW电源开关二，控制点EDI供水泵，AV1，AV2，（AV3），交流电开关SW1，直流电开关SW2三，信号取样点1.产水流量FI12.浓水流量FI2，3.产水电阻率AI14.产水硅浓度AI2四，控制步序总原则：1.EDI必须在有水流过，且流量高于最低值时才能通电；开机时，先通水后通电；关机时，先断电后断水。2.EDI的进水应符合进水要求。A，启动：3.不合格产水排放阀AV2开；4.EDI供水泵开；5.交流电开关SW1开；6.当浓水流量FI2大于设定值(LX45Z：膜块数量*1.1*0.21m3/h)（必须），且FI1大于设定值（LX：膜块数量*1.1*2.55m3/h）（必须）时，直流电开关SW2开；7.产水水质AI值符合标准（如：电阻率设定值）时（通常0~5秒左右，视具体情况定），产水阀AV1开；8.当AV1处于全开后AV2关；9.进入正常运行状态。B，关机：1.不合格产水排放阀AV2开；2.AV2全开后AV1关；3.直流电开关SW2关；4.交流电开关SW1关；5.EDI供水泵停；6.进入关机状态。C，紧急停机条件：1.浓水流量/（产水流量）低于设定的最低值（见启动部分）或2.进水不合格（电导率超标，余氯/ORP超标等）或3.EDI供水泵停止膜堆外部尺寸图：标准的多膜堆CEDI系统PID图：参考案例：化学清洗:建议和反渗透共用清洗系统，反渗透的清洗系统对于CEDI来说完全足够。以下设备必须采用与所推荐使用的清洗液相容的材料制造。在清洗前，请务必彻底冲洗所有管道和相关设备，以清除可能会对系统造成损害的碎片。清洗过程中需要使用下列设备：水箱及选型水箱和LX45Z系统连接在一起。清洗液将在此水箱中准备。体积应考虑现场从清洗水箱到CEDI系统管道的长度和管径，以及清洗时清洗液的液位。每个LX45Z膜堆存水量按120升计算。清洗泵及选泵在系统与清洗水箱之间应有一个清洗泵。按照下表的流量，CEDI进口压力最少要保证2.1公斤以上。水泵与清洗液接触的表面的制造材料必须与清洗液不相容。清洗时，按照下表调整流量（应该尽量使用下表所列的流量）：清洗泵的选型按照流量大于7.65*18=137.7吨/小时/套，扬程按膜堆本身压力降2.1公斤考虑。阀门和清洗管路下图显示了常用LX45Z系统的清洗流程图。需要阀门用于混合，清洗，及清洗箱排水。根据要去除物质的种类，可以使用两种不同的清洗液对系统进行清洗：盐酸（2％）工业级或以上－用于清除结垢和金属氧化物；氯化钠/氢氧化钠（5％氯化钠，化学纯或以上/1％氢氧化钠，工业级或以上）－用于清除有机污染物及生物膜；典型的LX45Z系统清洗管道流程流量（m3/h）单个LX45Z膜堆产水5.1浓水2.55总进水7.65进水阀清洗泵排放阀IP-LX膜堆产水阀产品水浓水浓水阀浓水室进水阀进水CIP在线清洗CIP在线清洗一、使用2.0％盐酸清洗（HCl）盐酸是一种腐蚀性液体，使用时请使用安全手套、安全镜并穿着防护服。使用盐酸清洗包括下述三个步骤：1、盐酸循环清洗（2％HCl）；2、氯化钠冲洗（5％NaCl）；3、清水冲洗。第一步：盐酸循环清洗注意：下述清洗程序是根据上图的管道设置而定的。1．准备对LX45Z系统进行化学清洗。确保清洗箱的排水阀门已关闭。2．向清洗箱注入所需数量的水。3．将所需数量的浓度为36.5％的盐酸HCl与清洗箱里的水混合。在循环期间，或许需要加入更多盐酸。4．完全打开清洗泵吸入阀门和清洗泵旁通阀门。5．启动清洗泵。6．当化学制品逐渐地彻底混合后，打开清洗泵排放阀门，同时关闭清洗泵旁通阀门，并将产水和浓水的流量调至上表中给出的数值。7．将溶液通过膜堆循环30分钟。8．循环时，监控溶液的pH值。如果pH开始升高，可加入更多盐酸，以维持pH值大约在0.5左右。9．关闭清洗泵。检查清洗箱清洗液pH值。如有必要，进行中和,然后排放清洗箱中的水。第二步：氯化钠冲洗1．将产水和浓水的输出管线从清洗箱中移去，转为产水和浓水直接排放；2．将水注入清洗箱；3．将氯化钠加入清洗箱；4．启动清洗泵，冲洗膜堆大约3分钟；5．关闭清洗泵；6．排放清洗箱中溶液。第三步：清水冲洗1．清水能将清洗液和盐溶液从系统中冲洗掉，从而为系统的正常运行作准备。2．关闭清洗泵的排放阀门，断开膜堆与清洗设备的连接，仍然保持产水和浓水直接排放；3．开启系统的进水供应，慢慢将进水阀门打开，让RO产水通过膜堆后直接排放；4．冲净系统中剩余的全部清洗液后，恢复正常运行。二、使用使用5％氯化钠/1％氢氧化钠混合液清洗氢氧化钠是一种腐蚀性化学品，使用时请戴上安全手套、安全镜并穿着防护服。5％氯化钠（NaCl）/1％氢氧化钠（NaOH）溶液能有效清除膜堆中的有机污染物。此清洗液既可用于日常清洗也可以用于去除有机污染物。本流程包括下述两个步骤：1、氯化钠/氢氧化钠循环清洗。2、清水冲洗。第一步：氯化钠/氢氧化钠循环清洗注意：下述清洗程序是根据上图中的管道设置而定的。准备对LX45Z系统进行化学清洗。遵循上表中的用法说明，确保清洗箱的排水阀已关闭；向清洗箱注入所需体积的水；完全打开清洗泵吸入阀和清洗泵旁路阀；启动清洗泵；将所需量氯化钠溶解在清洗箱中；将所需量的氢氧化钠溶解或混合在清洗水箱中；当彻底混合后，打开清洗泵排放阀，同时关闭清洗泵旁路阀，并将淡水和浓水流量调至上表中给出的数值；将溶液在膜堆中循环30-60分钟；关闭清洗泵；检查清洗溶液pH值，如有必要，中和后排放。第二步：清水冲洗本步骤中的清水冲洗能将清洗液从系统中冲洗掉，并使系统为正常运行做好准备。1．将产水和浓水的出水管线从清洗箱中移走，并接到排水沟。2．关闭清洗泵的排放阀门。开启系统的进水供应。慢慢将进水阀门打开，让RO产水或CEDI产水通过膜堆，然后排出。冲洗系统中剩余的全部清洗液后，断开膜堆与清洗设备的连接。恢复正常运行