电镀废水处理站DTCR辅助氢氧化物沉淀工艺改造王本洋

54　　　　Vol.37　No.6　2011DTCR王本洋　简　丽(,　100120)　　　某废水处理站改造前采用传统氢氧化物沉淀工艺处理高浓度含铬、氰镉电镀废水,运行不稳定,出水不能达标排放。工艺改造后增加了高分子重金属捕集沉淀剂DTCR辅助去除重金属,在含铬废水DTCR投加量为50mg/L、含氰镉废水DTCR投加量为10mg/L条件下,出水总铬、镉分别稳定在0.5mg/L、0.2mg/L以下,远低于《电镀污染物排放标准》(GB21900—2008)限值。　电镀废水　DTCR　沉淀　重金属　铬　氰镉ImprovementoftheDTCR-assistanthydroxideprecipitationprocessinelectroplatingwastewatertreatmentstationWangBenyang,JianLi(SecondDesignandResearchInstitute,ChinaAviationPlanningandConstructionDevelopmentCo.,Ltd.,Beijing100120,China)Abstract:Beforereconstructionproject,somewastewatertreatmentstationusedthetradition-alhydroxideprecipitationprocesstotreatelectroplatingwastewaterwhichcontaininghighconcen-trationchromiumandcadmiumcyanide,butthetreatmenteffectwasnotstableandeffluentcouldnotmeetthedischargestandards.Afterimprovement,thepolymerheavymetalchelatingagentDTCRwasusedtohelpheavymetalremoval.WhentheDTCRdosageforchromiumwastewaterandcadmiumcyanidewastewaterwere50mg/Land10mg/Lrespectively,thetotalchromium,cadmiumineffluentwerestabilizedbelow0.5mg/Land0.2mg/Lrespectively,whichwasfarbe-lowthestandardsofEmissionstandardofpollutantsforelectroplating(GB21900—2008).Keywords:Electroplatingwastewater;DTCR;Precipitation;Heavymetal;Chromium;Cad-miumcyanide　　。2001,《》(GB8978—1996)。,,[1,2]。200881《》(GB21900—2008),,。1　1.1　,8h,、、400m3/d。1。1　/m3/h15Cr6+60～100mg/L,pH4～510　CN-10～30mg/L,Cd2+2～4mg/L,pH8～918pH4～615pH8～91.2　,DOI:10.13789/j.cnki.wwe1964.2011.06.008　Vol.37　No.6　201155　　　1。pH2～2.5Na2S2O5,Cr6+Cr3+,pH8.5～9,;NaClO,pH10～11CN-CNO-,,pH11.5～12Cd2+,。1　1.3　(1)1,,,4m×5m×4m,HRT4.5h。2(11),15m3/h,12m。(2)1,PVC,3m×1.5m×1.8m,2,HRT30min。(3)1,,PVC,2m×1.5m×1.5m,HRT15min。(4)1,,,HRT1h,0.4MPa,35%。(5)2,,,1.5m×3.5m,10m/h。(6)1,,,3m×5m×4m,HRT5h。2(11),10m3/h,12m。(7)1,,PVC,3m×1.5m×1.8m,2,HRT40min。(8)1,PVC,2m×1m×1.5m,HRT15min。(9)1,,,HRT1h,0.4MPa,35%。(10)2,,,1.2m×3m,10m/h。1.4　,Cr6+50mg/L,Cd2+1mg/L,《》(GB8978—1996)。2005,,Cr6+100mg/L,Cd2+4mg/L,。200881《》(GB21900—2008),GB8978—19961.5mg/L1mg/L,0.1mg/L0.05mg/L,。2　280m2,,、、、。,,,[3～5]。(DTCR1)。DTCR,,,(TDC)。15min,1,15min;pH,NaOHpH,DTCR、PACPAM。3　,Cr6+80～100mg/L,Cd2+3～4mg/L。,2mg/L,0.08mg/L。DTCR,,《》(GB21900—2008)。56　　　　Vol.37　No.6　20113.1　pHDTCRDTCRpH5～13,pH。pH,,pH;pHDTCR,DTCRpH。3.1.1　pHDTCR2,,pH8.5～9,2mg/L,;pH9,Cr(OH)3,。DTCR,DTCR40mg/L,pH6～10,DTCR;pH7～9,pH,0.75mg/L。DTCR,DTCR,DTCR;pH7～7.5DTCR,,DTCR。2　pHDTCR3.1.2　pHDTCR3,,pH11.5,0.1mg/L;pH,,0.08mg/L,。DTCR,pH11,5mg/LDTCR,0.05mg/L,。3.2　DTCR3.2.1　DTCRpH7～7.5DTCR,3　pHDTCRDTCR4。0～40mg/L,DTCR;,,50mg/L,0.5mg/L,GB21900—2008。DTCR,0.2mg/L,,DTCR。4　DTCR3.2.2　DTCRpH11～11.5DTCR,DTCR5。10mg/L,0.02mg/L。4　,pH7～8、DTCR50mg/L;pH11～12、DTCR10mg/L。,　Vol.37　No.6　201157　　　5　DTCR2　GB21900—2008/mg/L60～1002～40.3～0.51/mg/L2～40.08～0.100～0.020.05,2。7.8,0.8,、7。,、3.5/m32.9/m3。DTCR,、4.2/m33.1/m3。、0.7/m30.2/m3,,。5　(1),DTCR,,。(2)DTCR,pH,、。(3),DTCR50mg/L,0.5mg/L;,DTCR10mg/L,0.02mg/L,、GB21900—2008。参考文献1　,..:,20002　,,,..,2003,23(4):33～353　..,2005,6(9):83～854　,,,.DTC(EDA).,2006,25(6):765～7675　,,.DTCRCr3+,Cu2+,Ni2+.,2008,36(3):68～71　　§:10012012:[phone]E-mail:[e-mail]:2011-01-05:2011-03-30创新理念　让科技发挥效益　　,,。1957,,,。、,,,,5～6h,。,,,,“+”。、,,、,,50%。,,,,,。2010,5(),,36000m3/d,,。(通讯员　张志军)