曝光工艺流程示意图

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资源描述

显影(显影机)蚀刻(蚀刻机)后烘烤剥膜(脱膜机)检查镀ITO导电膜(镀膜机)光阻涂布(涂布机)来料烘烤曝光玻璃盖板CoverLens镀ITO导电膜(镀膜机)8486302200制造平板显示器用物理气相沉积装置在来料玻璃盖板表面镀一层ITO导电膜(氧化铟锡)用于导电,如图中黄色示意部分真空镀膜机玻璃盖板CoverLens镀膜在镀过ITO(氧化铟锡)的玻璃表面均匀涂布一层感光光阻材料(PR,如图中蓝色示意部分),然后再进行烘烤涂布机光阻涂布(涂布机)镀完ITO导电膜产品涂布8486303900其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造平板显示器用的机器或装置)将掩膜版上的电路图图案,投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上曝光机UV灯掩膜版曝光产品曝光感光光阻涂布后产品UV光透过掩膜版,照射到曝光产品的感光光阻表面,掩膜版上透明的部分,UV光可以透过并照射到感光光阻上,使光阻产生反应。掩膜版上黑色不透明的部分,UV光无法透过,故此部分的光阻不产生反应。从而使掩膜版上的电路图图案,投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上。UV灯掩膜版固定位置曝光产品固定位置UV灯掩膜版曝光产品曝光被照射部分8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将显影液喷淋到曝光后的产品表面,显影液会将被UV光照射发生反应的感光光阻溶解掉,从产品表面去除,留下未被UV光照射的部分,保留在产品表面显影机显影显影(显影机)曝光后产品被曝光部分未被曝光部分蚀刻蚀刻(蚀刻机)8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将蚀刻液喷淋到显影后的产品表面,蚀刻液会将未被感光光阻PR覆盖部分的ITO蚀刻掉,留下被感光光阻PR覆盖保护的部分,保留在产品表面蚀刻机显影后产品未被曝光部分剥膜蚀刻后产品剥膜(脱膜机)8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将脱膜液喷淋到蚀刻后的产品表面,脱膜液会将未被UV光照射的感光光阻PR溶解掉,留下被保护的ITO部分,从而形成线路脱膜机

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