光刻胶参数及光刻工艺1、正性光刻胶RZJ-304规格RZJ-304:25mpa·s,50mpa·s(粘稠度),配用显影液:RZX-3038匀胶曲线注:粉色为50cp,蓝色为25cp推荐工艺条件①涂布:23℃,旋转涂布,膜厚1.0~3.5μm②前烘:热板100℃×90sec③曝光:50~75mj/cm2(计算方法:取能量60mj/cm2取光强400×102um/cm2,则60/40=1.5s)④显影:23℃,RZX-3038,1min,喷淋或浸渍⑤清洗:去离子水30sec⑤后烘:热板120℃×120sec2、正性光刻胶S1813规格S1813,配用显影液为ZX-238匀胶曲线推荐工艺条件1(以具体工艺为参考)①涂布:23℃,旋转涂布,膜厚1.23um(1.1~1.9μm)②前烘:热板115℃×60sec③曝光:150mj/cm2④显影:21℃,ZX-238,65sec,喷淋或浸渍⑤清洗:去离子水30sec⑥后烘:热板125℃×120sec3、负性光刻胶AZ-5214规格AZ-5214,配用显影液AZ-300匀胶表格(单位:微米)推荐工艺条件1(以具体工艺为参考)①涂布:23℃,旋转涂布,膜厚1.47um(1.14~1.98μm)②前烘:热板100℃×90sec③曝光:240mj/cm2④后烘:115℃×120sec⑤泛曝光:200mj/cm2⑥显影:21℃,AZ-300,60sec,喷淋或浸渍⑦清洗:去离子水30sec⑧坚膜:热板120℃×180sec注意:紧急救护措施(对于光刻胶)①吸入:转移至空气新鲜处,必要时进行人工呼吸或就医。②皮肤接触:肥皂水清洗后自来水清洗。③眼睛接触:流动清水清洗15分钟以上,必要时就医。