Solidworks-基本零件建模

LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRDSolidWorks基本零件建模LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD第一章Solidworks简介第二草草图绘制简介第三章基本零件建模第四章阵列第五章装配体和工程图简介内容介绍LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD第一章：SolidWorks简介1,了解solidworks建模系统的主要特点。2,区分草图特征和实体特征。3,熟悉了解solidworks用户界面。4,了解如何通过不同的尺寸标注方案来表达不同的设计意图。LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRDSW特点（简单易用，功能强大）SW是一个基于特征的参数化实体建模设计软件，采用WINDOWS图形用户界面，易学易用。利用SW可以创建完全相关的三维实体模型，可以通过约束条件来体现设计意图。基于特征：正如装配体有许多单独的零件组成，Solidworks模型由许多个单独的元素组成。这些元素就称为特征。Solidworks中的特征：草图特征；实体特征草图特征：基于二维草图的特征。例如：拉伸、旋转、放样等。实体特征：直接创建在实体上的特征。如：圆角、倒角、抽壳等。LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD工具栏前导工具栏任务窗格设计树参考三重轴状态栏绘图区域使用界面介绍特征控制棒LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD隐藏/显示树区域设计树（featuremanager）属性管理器（propertymanager）配置管理器（configurationmanager）DimxpertmanagerLITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD打开和收起预览取消确定打开和激活选项组关闭和未激活的选项组PropertyManager属性管理器LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD设计意图演示示例：图1-1图1-2LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD第二章：草图绘制简介学习目标：1.建立新零件2.创建新草图3.绘制草图实体4.在草图元素之间建立几何关系5.理解草图的几种不同状态6.在草图中绘制倒角和圆角7.拉伸草图形成实体LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD2013版之后的系统在绘制草图时，可根据标注的第一个线条尺寸来同比例缩放其他线条，保持草图基本形状不变；而低版本则没有这个功能，故最好绘制草图时尺寸不要偏差太大，并先添加一些已知的几何关系。绘制步骤：1.新零件2.新建草图3.选择绘图基准面4.绘制草图5.添加草图几何关系和标注尺寸6.确认草图状态7.保存和拉伸草图LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD草图指示器完成并保存或放弃草图实体按钮基准平面草图绘制界面LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD草图几何关系：几何关系是用来限制草图元素的行为。系统可以自动添加一些几何关系，另外一些可以在需要的时候手动添加。直线几何关系列表草图尺寸确认对话框取消确定数值LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD草图状态：欠定义（不确定的定义状态）完全定义（草图具有完整的信息）过定义（草图具有重复的尺寸或互相冲突的约束）没有找到解（系统无法根据草图元素的尺寸或约束得到合理的解）找到无效的解（草图虽解出但会导致无效的几何体）悬空（找不到原来的参考）欠定义过定义LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD圆角/倒角选项角度等参数确认/修改区域绘制圆角/倒角区域拉伸草图形成实体LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD草图指南：1、草图要简洁。简洁的草图易于编辑、不易出错，并且有利于下一步的使用。2、利用好第一个草图的原点。3、零件的第一个草图应该最能展示零件的主要轮廓4、应该先创建几何草图，然后再添加几何约束，最后标注尺寸。因为尺寸会干扰添加的几何约束5、尽可能使用几何约束来表达设计意图。6、绘制草图时要使用合适的比例，以免在标注时产生错误或者导致图形重叠。7、添加或编辑尺寸时，原则是从最近的或最小的几何体开始，然后再编辑最远的或最大的几何体，以免几何图形重叠。8、通过约束、链接数值和方程式来减少无约束关系的尺寸的使用。9、充分发挥对称有事。使用【镜像】或【动态镜像】草图工具来镜像草图元素和添加对称约束关系。10、灵活多变。有时有必要改变尺寸或约束的添加顺序，并且在添加尺寸前将几何实体拖到离精确位置稍近的地方。11、及时修复草图错误。【SkentchXpert】和【检查草图合法性】功能能帮助快速找到问题并修复。LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD第三章：基本零件建模选择最佳的轮廓选择合适的草图平面建立一个新零件绘制一幅新草图拉伸草图建立凸台、切除特征使用孔向导建立孔LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRDLITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD例：练习LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD建立基准轴和基准面线性阵列“只阵列源”和“可跳过的实例”圆周阵列镜像草图驱动阵列装配体中零件阵列第四章：阵列建立某个或某些特征多个实例的最佳方法LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD使用阵列的优点：几何体的重复并且每个实例与源保持关联。方便修改在装配体中应用零部件阵列，节省装配时间。源：源是被阵列的几何体，可以是一个或者多个特征、实体或者面。阵列实例：阵列实例是通过阵列创建的“源”的复制品。它从源派生并且随着源的变化而变化。LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD建立基准轴LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD建立基准面LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD线性阵列选择一个或二个边线进行阵列确认阵列间距和数量从设计树或图形上选择“源”LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD勾选“只阵列源”选择可跳过的实例LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD从模型或设计树中选择要阵列的对象选择一个线性边线/圆周边线/轴确认阵列角度和个数，或确认阵列个数并勾选“等间距”圆周阵列LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD选择一个面做镜像面选择要镜像的特征/面/实体镜像LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD草图驱动阵列-----由草图点来控制创建线性阵列.在标准线性阵列特征不能直接实现的情况下,能满足一般的线性阵列的要求新建构造线并添加一些点或直接添加点并完全定义草图LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD装配体中零件阵列LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD装配体浏览文件选择第一个零件,单击放置定位添加一个或多个零部件到装配体使用配合从XYZ三个方向完全配合LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD工程图LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD已完成的3D模型LITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRDLITE-ONSEMICONDUCTORCORP.DISCRETEDIVISIONLITEONSSECRD