SV-55中文版

NewARCoatingMaterialsSV-55LowRefractiveIndexMaterials(低折射率材料)开发目的物理特性化学原理薄膜特性-折射率-吸收系数-SiO2和SV-55透过率比较信赖性测试结果-热冲击测试-高温放置测试SV-55优点混合物缺点应用领域采购信息研究机构目录2一般使用的材料是按照各个用途各自使用，在光学产业中，低折射材料SiO2在进行AR/IR镀膜时被广泛使用并充分发挥其特性。.但是近年来对超薄化和高画质双重追求趋势的光学产业产品和IT产品结构给薄膜带来高应力和过多的压力，导致了复合增加薄膜破裂(Crack)和小丘等不良现象的趋势。为此(株)度恩光学为了克服SiO2的局限性重新开发了SV-55产品。.开发目的3基本信息GENERALINFORMATION分子式Si9Al2O10外形Light-coloredparticles熔点about1700℃蒸发温度about2000℃透光范围330-2,000nm折射率1.48at500nm物理特性4参考镀膜条件RECOMMENDEDCOATINGCONDITIONS蒸发源E-beam坩埚Copper/watercooled氧气分压2.0~.3.0*10-5torr沉积速度0.2-0.8nm/sec基片温度30-350°C密度2.15g/cm3Z-ratio1.0物理特性5固溶体[solidsolution,固溶體]指的是达到完全均匀相的固体混合物置换型固溶体치환형고용체指的是固体的原子和大小相似的，其他元素的原子是不能嵌入原子排列邻层空穴中，因此原子在整齐排列的结构上推而入可取代形成填隙原子。化学机理6固溶体SV-55Al和Si原子大小没有很大的差异而形成置换型固溶体。因此我们的SV-55不是一般混合的物料而是原子相完整的化合物。化学机理Si(Silicon)Al(Aluminum)原子量28.085526.981539共价半径1.181.11SiO2Al2O37공유결합반지름以下数据为SV-55薄膜的折射,吸收,透过的图表和条件的共同点①共同点基片:5Ⅹ5玻璃片基片的透射率:92%镀膜厚度:150nm(单面镀膜)真空度:3.0Ⅹ10-5torr镀膜温度:70°C氧气投入量:0sccm镀膜设备:(株)韩一真空∮1200(型号:HVC-1200DAHOMS)测量范围:238~1033nm②折射率,吸收系数测量:高精度全光谱椭圆偏振仪(Ellipsometer)③透射率测量:HitachiU-4100Spectrophotometer薄膜特性8SV-55和SiO2薄膜的各波长透过率比较图表薄膜特性Materialname250nm[%T]300nm[%T]350nm[%T]400nm[%T]450nm[%T]500nm[%T]SV-5519.180.892.092.992.992.7SiO219.380.891.993.293.292.9Materialname550nm[%T]600nm[%T]65nm[%T]700nm[%T]750nm[%T]800nm[%T]SV-5592.492.392.392.492.592.7SiO292.592.292.192.292.492.69SV-55薄膜的各波长折射率薄膜特性Wavelength[nm]250300350400450500Refractiveindex1.40531.48471.49621.48881.48381.4806Wavelength[nm]550600650700750800Refractiveindex1.47851.47701.47601.47511.47451.474010SV-55薄膜的各波长吸收系数薄膜特性Wavelength[nm]250300350400450500Absorptionindex5.09.E-027.78.E-023.18.E-021.69.E-021.11.E-028.18.E-03Wavelength[nm]550600650700750800Absorptionindex6.48.E-035.38.E-034.61.E-034.05.E-033.61.E-033.26.E-0311SV-55信赖性测试结果信赖性测试结果测试分类SiO2+SV20(Multilayer)SV-55+SV-20(Multilayer)高温放置耐高温测试条件험조건85℃/96Hr→2cycle85℃/96Hr→4cycle结果/判定N.GPASS12信赖性测试结果测试分类SiO2+SV20(Multilayer)SV-55+SV-20(Multilayer)热冲击测试条件85℃2Hr/-40℃2Hr20cycle→2cycle85℃2Hr/-40℃2Hr20cycle→3cycle结果/判定N.GPASS13SV-55信赖性测试结果固溶体SV-55优点SV-55不是单纯混合的混合物，而是引导化学的合成制造的化合物，为了持有稳定的特性设计，并且特别在真空镀膜过程中由电子抢引起的飞溅,镀膜速度不稳定性能够得到改善。SV-55优点Al2O3SiO2SV-55:具有化学的完全性在真空镀膜过程中，由电子枪引起的飞溅，度末速度不稳定能够得到改善。SiO2+Al2O3单纯混合物:缺乏化学的安全性，因此在镀膜过程中由电子束做熔融时会产生气泡并且镀膜速度又不一致14SV-55:화학적안정성을가지며증착공정에서전자빔에의한용융시기포가발생하지않으며코팅속도또한일정함SiO2+Al2O3단순혼합물:화학적안정성이결여되어증착공정에서전자빔에의한용융시기포가발생하며코팅속도가일정하지않음SV-55/SiO2+Al2O3混合物比较SV-55优点分类SV-55SiO2+Al2O3混合物制造商(株)度恩光学其他公司分子式Si9Al2O10SiO2+Al2O3结构置换型固溶体单纯混合物优点①被电子束不会产生气泡与针孔不良现象。②因化学的结合结构,镀膜速度会稳定与加强薄膜的强度。-缺点-①材料被电子束熔融时候会产生针孔不良现象。②由于单纯混合的限制所产生的镀膜速度不均匀性,因此不能确保再现性。AlSiO15①전자빔에의하여기포가발생하지않으며핀홀불량발생이없음②화학적결합으로인하여코팅속도가안정적이며박막의강도가강화됨①제품이전자빔에용융될때기포가발생하며핀홀불량이발생②단순Mixture의한계로인한코팅속도의불균일성으로재현성확보가불가능함其他公司混合物产品混合物[mixture,混合物]混合物是由两种或多种物质之间没有化学反应合成的单纯组成的物质。混合物的结构혼합물의구조A+B=A+B∴SiO2+Al2O3=SiO2+Al2O3此结构不能成为新的物质이며새로운물질이될수없다.混合物沉积时缺点SiO2+Al2O3是由于混合物结构的特性,在镀膜过程中随电子束照射各自产生熔融过程就会发生很多气泡,因此发生镀膜速度不均并大量发生针孔不良现象。混合物缺点Al2O3SiO2混合物理想的组成混合物实际组成16SV-55是从VIS到NIR，会在用玻璃和塑料制作的基片上能够镀膜，化学的稳定性非常突出,对热冲击和应力导致的薄膜压力有明显提高，具很强的耐久性。适用领域在眼镜片和移动镜头类似的射出镜头,各种光学胶片,精密光学玻璃材料上都可以代替SiO2成为回填材料。17Packing:500g/1bottleMinimumorderquantity:1kg采购信息18(株)度恩研发中心研究机构19마치며20