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1AMATPRODUCERUVCHAMBER预防性保养操作说明书1目的：...................................................................22适用范围：...............................................................23相关术语：无.............................................................24作业安全卫生与环保须知事项：.............................................25维护频度的指定：.........................................................36维护操作具体步骤：.......................................................47AMATPRODUCERUVCHAMBER预防性保养CHECKSHEET..........................1821目的：ProducerUVchamber维护保养操作方法，根据本手册进行设备的预防性维护保养，使之能够满足良好的、稳定的工艺要求。2适用范围：2.1.适用机台：AMATProducer2.2.机台结构与外观：3相关术语：无4作业安全卫生与环保须知事项：4.1.作业环保注意事项：4.1.1.工艺废气排放：NA4.1.2.工艺废水排放：NA4.1.3.工艺噪音排放：NA4.1.4.固体废物（危险废物）：项目普通垃圾桶黄色垃圾桶紫色垃圾桶绿色垃圾桶红色垃圾桶类型无害废弃物（氧化性）（毒性）（酸性）（易燃性）普通废弃物★沾有glycol★沾有酒精★4.2.作业安全注意事项：4.2.1.物理性危害：NA4.2.2.机械危害：4.2.2.1.高温4.2.2.2.移动的部件4.2.2.3.重物体的搬运4.2.3.噪音危害：NA34.2.4.化学性危害：4.2.4.1.N2：不燃气体；密闭空间释放会造成窒息。4.2.4.2.He：不燃气体；大量吸入时会导致窒息。4.2.4.3.乙二醇：吸入蒸气和雾滴会对鼻、咽喉造成刺激，浓度高于56ppm，会因喉咙的刺激，无法忍受太久；急救措施将患者移到新鲜空气处，如果必要的话，实施口对口人工呼吸或机械通风，并立即就医。皮肤接触液体会造成刺激；急救措施迅速用大量的清水冲洗15分钟以上，脱掉污染的衣物、鞋子以及皮饰品(如表带、皮带)，并立即就医。眼睛接触液体会造成刺激，眼皮发炎，但不会造成永久性损害。急救措施：立即撑开眼皮，以大量的清水冲洗受污染的眼睛至少15分钟以上。4.2.4.4.O3:不燃气体具有强烈的刺激性，，它主要是刺激和损害深部呼吸道，并损害中枢神经系统，对眼睛也有轻度损害作用。4.3.作业职业健康注意事项：接触化学品请佩带防护眼镜和防酸手套，如有必要还需穿戴防护服。机台正常PM时需要穿戴乳胶手套，不需要穿戴SCBA,但在处理到机台残留粉尘或使用到酒精的时候需要穿戴防毒面具和护目安全眼镜。4.4.操作人员应注意的安全事项：4.4.1.进行机台Chamber部分PM操作时，请参照PPElisttable:PPEItem是否使用乳胶手套是防酸碱手套否防有机手套否长袖防护手套否半面式面罩否全面式面罩否防酸filter否防酸、防有机filter否防有机filter否防氨filter否全效式filter否安全眼镜否4.4.2.护目眼镜的说明护目镜可多次使用。4.5.污染预防措施4.5.1.处理无尘布一般无尘布，无害废弃物，放置普通垃圾桶内。沾有DIwater的无尘布，无害废弃物，放置普通垃圾桶内。沾有酒精的无尘布，酒精具有易燃性，放置红色垃圾桶内。4.6.安全事故处理程序因设备而发生任何安全事故时，按EMO；发生紧急事故请联络ERC(电话：6403，5110)。因其他原因发生事故时，可以请相关人员帮忙。4.7.其他注意事项：无5维护频度的指定：4ApplicationToolPMspec(Wafers/days)Tolerance(Wafers/days)PMitemsApollo12000pcs/180days1200pcs/18daysUVDSS10000pcs/180days1000pcs/18days6维护操作具体步骤：6.1.维护前准备事项6.1.1.更换parts：1/4’Nigasket。臭氧（O3）的相关管路只能用SST的gasket3320-01163GSKTVCR1/4SSTCONTOUREDRTNR.6.1.2.维护材料及工具：无尘布；DIwater；内六角；公制扳手；Clearlid；Cabletie；Levelingtool；Heaterlevelingtool；PM推车；安全围栏；废水回收车。相关的工具（内六角，扳手，螺丝批等）注意前后段必须分开使用.6.1.3.PPE：乳胶手套。6.2.维护过程注意事项6.2.1.打开chamberlid时候，需要等Chamber的温度低于80℃后才能打开Chamber，以免人员烫伤以及processkit损坏。6.2.2.设备使用50%去DIwater、50%乙二醇的混合物作为冷却液，操作时请注意安全。6.2.3.打开或关闭chamber时要注意cable、水管和气管等可能被损坏的部件。6.2.4.拆开O-ring密封面时要当心O-ring位置，避免O-ring掉了；和O-ring密封的金属面不能划伤，划伤严重会密封不好。6.2.5.PCW、heaterexchanger等循环液体的断开顺序为：请断开supply，再断开return；而导通时，请依照相反的顺序。水管内的液体排清后，需要用手套和cabletie将端口扎住，避免残留液体流出。6.2.6.无尘布沾DIwater的量为无尘布湿润，不要沾太多或者太少。所有parts装回之前都需要用气枪吹去表面particle和水汽。6.2.7.所有拆下的processkit都需要摆放在干净的无尘布上，减少磨损和沾污。擦拭processkit时，如果是有很多细孔的parts，例如blockplate、faceplate、mixinsert等，注意不要用无尘布擦拭，只能用气枪吹扫。6.2.8.放在振荡槽内振荡的processkit在振荡结束后要及时用N2气枪吹干，不能让kit表面的水自然风干，在kit表面形成水渍，如果发现表面的水已风干的，则先用水枪将kit表面完全润湿后再用气枪吹干。最后放入烘箱烘烤。注意振荡槽的前后段分开使用，严禁混用。6.2.9.在烘箱烘烤的kit，如果烘烤结束后将kit及时取出，如果2小时内不使用的则先将kit放入N2柜，不要将kit在烘箱内烘烤时间超过4小时。6.2.10.拆除或者安装螺丝时都要按照对称（对角或者星形）的顺序。所有拆下的螺丝都要放在相应的螺丝盒内，严禁乱放、螺丝。6.2.11.使用安全围栏将维护所需区域围好，时刻保持维护现场的环境整齐。使用过的无尘布丢在相应的垃圾桶内；擦拭Processkits或腔体后的无尘布需丢进红色垃圾桶内。6.3.TwinUVchamberwetclean此说明书仅以chamberA为例，其余chamber操作相同。6.3.1.设备MES系统状态更改6.3.1.1.通知制造部相关人员，告知需要维护的设备编号及借机时间，制造部相关人员同意借机后请制造部切换需维护设备状态。6.3.1.2.在ECMS系统上将需要维护的chamber状态改为PM。56.3.2.Chamberwetclean前准备6.3.2.1.用户登录：如设备操作处于未登陆状态，请在登录界面中输入用户名（Username）和密码（Password），如图1。图16.3.2.2.记录wafercount：在操作界面中点击GoTo→Maintenance→Preventive→ChamberA，如图2。进入Preventivemaintenance界面。将所显示的Side1，Side2中Wfr#afterwetclean数据记录在相应表格内，如图3。6.3.2.3.Wafercount清零：Preventivemaintenance界面中，点击Side1，Side2Wfr#afterwetclean数据后面的Reset按钮，如图3。6图2图36.3.2.4.如果机台上有FOUP正在process，则点击图标System→ControlSystem，进入controlsystem界面。6.3.2.5.确认没有wafer在processchamber内后，在sequencecontrol菜单页点击STOP按钮，等到SwitchtoManual按钮由灰变亮后点击此按钮，按钮名称变为SwitchtoAuto，如图4。图46.3.2.6.点击图标ChX→MonitorChamber，进入monitochamber界面，并点击腔体online图标，如图5。7图56.3.2.7.Monitorchamber界面右边的快速控制区内选择cleanrecipe为GOCLEAN的recipe，点击START，如图5。此操作需要在chamberidle时才能进行，chamber在run其他recipe时，则等待当前recipe结束后再执行GOclean。6.3.2.8.Cleanrecipe结束后，点击图标ChA→PutChamberOffline，将需要维护的chamberoffline。6.3.2.9.在monitorchamber界面点击Temperature图标，在heater快速控制区将heater温度setpoint设为60度，开始chamber降温，如图6。此时不要断开HeaterCB。图66.3.2.10.点击图标ChA→MonitorGasPanel，进入monitorgaspanel界面。6.3.2.11.找到HE气体的大流量MFC，如果没有HEMFC就使用AR气体purge，将流量设定为5000sccm，flowpath为FlowToCh，如图7。此时将Heaterlift的位置置于Release，不要放Process位置。8图76.3.2.12.进入controlsystem界面，在sequencecontrol菜单页点击SwitchtoAuto按钮，等到按钮变灰后，点击START按钮，按钮由亮变灰。6.3.2.13.Heater温度降到80℃以下后，在ACbox上关闭heater的CB。6.3.2.14.回到monitorgaspanel界面关闭purge气体及相应valve。6.3.2.15.点击ChA→OfflineChamber，将chamberoffline。6.3.3.拆除upperlid的parts6.3.3.1.拆除UVchamber外部保护面板（FRONTPANELS、SIDEPANELS、LOWERSLIDINGBACKPANEL），见图8。图86.3.3.2.断开O2浓度传感器（蓝框标注）信号线接头，拆除冷却气体用循环通道（REMOVEABLEDUCT-红框标注、TRANSITIONDUCT-绿框标注），见图9、图10。9图9图10106.3.3.3.断开lampheadassembles上部的UVgeneratorpowersupplycable，拆除lampheadassembles上下部的固定螺丝，拆除lampheadassembles（见图11）。拆卸lampheadassembles时，务必注意不要把lampheadassembles底部的金属网（RFscreen）弄破，拆下后需要把lampheadassembles放置在海绵垫上，以保护RFscreen不被损坏。图116.3.3.4.松开正时皮带张紧装置，见图12。图126.3.3.5.取下正时皮带。见图13。11图136.3.3.6.断开RFdetectorcalbe接头，见图14。图146.3