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中国地质大学（北京）2005年春季学期第1页（共n页）2005年4月1课程号：《综合地质学》期末考试试卷（A卷）答案考试形式：闭卷考试考试时间：120分钟班号学号姓名得分题号一二三四五总分得分一、名词解释（每题3分，共15分）1、侧伏角：当线状构造包含在一个斜面内时，此线与该斜面走向线之间的锐夹角为侧伏角。2、滑距：是指断层两盘实际位移距离，是根据错动前的一点，错动后分成两个对应点之间的实际距离。3、斜卧褶皱：枢纽和轴面两者倾向及倾角基本一致，也就是枢纽在轴面的侧伏角为90度左右。4、“构造窗”：在逆冲断层构造中，外来岩块被剥蚀，在大片外来岩块被剥蚀露出一小片原地岩块称为构造窗。5、石香肠构造：是不同力学性质互层的岩系受到垂直层面挤压时形成的构造。二、判断正误(每题2分，共20分)1、岩层的产状要素包括：走向、倾向、倾角。2、不整合接触的类型有：平行不整合、角度不整合。3、褶皱的要素包括：核部、翼部、转折端、枢纽、拐点、翼间角、轴面、轴迹、脊线和槽线。4、劈理组成要素包括：劈理域、微劈石。5、侵入岩的原生流动构造包括：流面、流线。6、小型线理包括：拉伸线理、矿物生长线理、交面线理、皱纹线理。7、碎裂岩系列构造包括：断层角砾岩、碎裂岩、碎粉岩、断层泥、玻化岩。8、断层的主要组成要素有：断层面、断盘、断层线、断裂带。9、.水平岩层在地质图上出露宽度取决于：水平岩层厚度、地面坡角。10、褶皱的组合型式：阿尔卑斯式、侏罗山式、日尔曼式。三、简述题（每题10分，共20分）1、简述交错层理与劈理弯曲现象的区别（10分）交错层理是沉积岩原生构造，是指细层与层系界面呈相交关系，一般细层呈弧形弯曲，细层内部岩石组成基本一致，也就是细层内部的岩石结构一致。劈理弯曲现象是次生构造，是指由于岩性逐渐变化一起的一种弧形弯曲的现象，劈理域围限的岩性具有明显的变化规律，颗粒具有规律的变化。中国地质大学（北京）2005年春季学期第1页（共n页）2005年4月22、简述张节理与剪节理的区别（10分）特征剪节理张节理概念岩石中受剪应力作用形成张应力产生节理产状产状稳定、延伸远产状不稳定，延伸不远形态节理面较平整，面上有擦痕粗糙，无擦痕切穿能力在含砾砂岩中，节理一般切砾砂，平整绕砾而过，个别切而粗糙组合特征单个剪裂面一般由很多羽裂组成，典型剪节理常成共轭节理系，发育良好成菱形块体，具等距性成不规则网状，树枝状，如追踪X节理成锯齿状，有时成放射状或同心环状剖面形态无脉充填，无充填，呈楔状，充填，呈脉梳状尾端变化特征呈折尾、菱形结环、分叉，这些现象总体呈共轭呈树枝分叉，杏仁结环状，不规则网状状等应力状态最大主应力与剪节理方向呈一定角度接触最大主应力平行张节理方向四、论述题（每题15分，共30分）1．论述褶皱形态分类（GJRamsay分类）的原则和类型，并评述其优缺点。（15分）褶皱形态分类（J.G.Ramsay）：分类依据是等斜线。等斜线是褶皱正交剖面上层的上下界面的相同倾斜点的连线，即相邻褶皱面的等斜切点的连线即等斜线。J.G.Ramsay根据等斜线的型式将褶皱划分为三类五型：I类：IA等斜线向内弧强烈收敛，内弧曲率远远大于外弧，为典型的顶薄褶皱；IB等斜线向内弧收敛，内弧曲率大于外弧，等斜线长度相等，为典型的平行褶皱；IC等斜线向内弧收敛，内弧曲率大于外弧，转折端的等斜线长度大于两翼，为典型的顶厚褶皱。II类：等斜线平行且相等，内外弧曲率相等，为典型的相似褶皱。III类：等斜线向外弧收敛，外弧曲率大于内弧，为典型的顶厚褶皱分类优点：具有半定量化特点、考虑褶皱层厚度变化，隐含褶皱形成机制；分类缺点：相对理想化、考虑二维空间忽视三维变化。2、论述确定断层存在的主要标志。（15分）断层的识别主要包括地貌标志、构造标志、地层标志、岩浆岩和矿化及岩相厚度标志。1）地貌标志断层活动及存在，常在地貌上有明显的表现，这些由断层引起的地貌现象就成为识别断层的直接标志。主要包括：断层崖、断层三角面、错断的山脊、串珠状湖泊、泉水带状、水系忽然转向等。2）构造标志断层活动总是形成或留下许多构造现象，这些现象也是判断断层可能存在的重要依据。其中包括：地质体被错开、断层岩、断层牵引构造。3）地层标志：地层重复与缺失中国地质大学（北京）2005年春季学期第1页（共n页）2005年4月34）岩浆活动和矿化作用5）岩相和厚度标志五、根据下列图上表示的内容及文字提出的问题作出简练的回答，并用合适的符号或联线表示在图上（共15分）1、图1为单斜岩层，判定奥陶系岩层的走向和倾向（5分）：走向东西、倾向南。2、图2为剖面图，图中标出了地层的一些原生构造（斜层理、粒级层及波痕），请根据原生构造特征判断（5分）1）A、B两露头处岩层的面向：A面向向左、B面向向右2）两露头处地层之间的构造关系。倒转背斜。3、分析图3，判定断层的运动方向及断层的性质（5分）：上盘上升为逆断层。F图3图1图2图1图2图2ABBO3O2O14504404301:2000NAB1450450440440430430波痕粒级层波痕波痕波痕波痕粒级层粒级层粒级层