光催化氧化设备特点介绍

光催化氧化设备特点介绍光催化氧化设备无需恶臭气体进行特殊的预处理，如加温、加湿等，设备工作环境温度在-30度~95度之间，湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作，无需添加其他物质及药剂参与处理，光催化氧化除臭设备无任何机械装置，无运动噪音，无需专人管理和日常维护，只需要作定期检查维护，维护和能耗成本低，风阻极低，设备在运行过程中，会瞬间产生大量的强刺激性UV光线，严禁人员眼睛或皮肤钟暴露在光源中，需在有安全防护措施的情况下视察。光催化氧化设备特点：、高效性：光催化氧化除臭设备能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率高可达99%，远超过恶臭污染物排放标(GB14554-93)。2、无需预处理：光催化氧化除臭设备恶臭气体无需进行特殊的预处理，如加温、加湿等，除臭设备工作环境温度在摄氏-30度-95度之间，湿度在30%-98%、PH指在3-11之间均可正常工作。3、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭气体通过光催化废气处理设备进行脱臭分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。4、运行成本低：光催化除臭设备去任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需定期检查，本设备能耗低，(每处理废气风量为1000立方米/小时，仅耗电约0.2度电能)，设备风阻极低100pa。5、光解作用：UV-C紫外线C波段(254nm)光束辐射小颗粒分子(由氨基酸组成的蛋白质分子，由脂肪酸组成的脂肪分子，由糖组成的淀粉分子，还有维生素分子、矿物质分子)将油脂分子链切断，改变油脂的分子结构挥发性有机物易受UV-C的攻击。6、氧化作用：UV-C紫外线C波段(185nm)在工作时与空气中的氧气反应生成臭氧。臭氧是一种强氧化剂，对气体中的醇类、酯类、酮类、醛类、醚类、苯类等分子*氧化分解成如水蒸气和二氧化碳等无害的化合物。臭氧和OH同有机化合物反应并改变它们。