LCD培训教材(一)

LCD培训教材(一)LCD基本构造(其断面如下图)涂布光阻剂PhotoresistCoating显影Developing蚀刻Etching剥膜Stripe配向膜涂布PolyimideCoating灌液LCInjection定向Rubbing印框ScreenPrinting印点Cross-overPrinting预烤Pre-Curing涂布SpacerSpray组合GlassAssembly曝光Exposure清洗Clean清洗Clean贴片PolarizerAssemblyLCD制程流程图涂布光阻剂PhotoresistCoating显影Developing蚀刻Etching剥膜Stripe配向膜涂布PolyimideCoating灌液LCInjection定向Rubbing印框ScreenPrinting印点Cross-overPrinting预烤Pre-Curing撒布SpacerSpray组合GlassAssembly曝光Exposure清洗Clean贴片PolarizerAssembly清洗Clean显影Developing蚀刻Etching剥膜Stripe配向膜涂布PolyimideCoating灌液LCInjection定向Rubbing印框ScreenPrinting印点Cross-overPrinting预烤Pre-Curing撒布SpacerSpray组合GlassAssembly曝光Exposure涂布光阻剂PhotoresistCoating涂布光阻剂PhotoresistCoating贴片PolarizerAssembly清洗Clean涂布光阻剂PhotoresistCoating显影Developing蚀刻Etching剥膜Stripe配向膜涂布PolyimideCoating灌液LCInjection定向Rubbing印框ScreenPrinting印点Cross-overPrinting预烤Pre-Curing撒布SpacerSpray组合GlassAssembly曝光Exposure曝光Exposure清洗Clean涂布光阻剂PhotoresistCoating蚀刻Etching剥膜Stripe配向膜涂布PolyimideCoating灌液LCInjection定向Rubbing印框ScreenPrinting印点Cross-overPrinting预烤Pre-Curing撒布SpacerSpray组合GlassAssembly曝光Exposure显影Developing显影Developing贴片PolarizerAssembly清洗Clean涂布光阻剂PhotoresistCoating显影Developing剥膜Stripe配向膜涂布PolyimideCoating灌液LCInjection定向Rubbing印框ScreenPrinting印点Cross-overPrinting预烤Pre-Curing撒布SpacerSpray组合GlassAssembly曝光Exposure蚀刻Etching蚀刻Etching贴片PolarizerAssembly清洗Clean涂布光阻剂PhotoresistCoating显影Developing蚀刻Etching配向膜涂布PolyimideCoating灌液LCInjection定向Rubbing印框ScreenPrinting印点Cross-overPrinting预烤Pre-Curing撒布SpacerSpray组合GlassAssembly曝光Exposure剥膜Stripe剥膜Stripe贴片PolarizerAssembly•导电玻璃材料•就是在普通玻璃(不导电)的一个胶面层镀上透明导电膜的玻璃.目前常用的导电玻璃是氧化铟,氧化锡玻璃,通常简称ITO玻璃,在生产过程中,每片玻璃都必经过万用电表检测,导电面为ITO正面,不导电面无ITO面为背面.一、ITO玻璃的结构,如图1•°二、LCD制造用的ITO导电玻璃规格•玻璃厚度:0.5mm0.7mm1.1mm•玻璃面积:14*16(或355.6mm*406.4mm)\300*350•SiO2阻挡层:200~500A°(1A°=10–10米)•ITO层厚:250~2000A°•SiO2绝缘层厚:500~1000A°•ITO导电玻璃的主要技术•透光率8%•方块电阻RR10Ω、15Ω、30Ω、80Ω相对R越小越好•若R10Ω/膜厚1000~2000A°R100---300Ω/膜厚200---300AITO玻璃的技术要求•平整度好,一般要求平整度0.5um/20mm•机械强度与化学抗蚀性能,ITO层对玻璃(SiO2)表面的粘附力要强,不易脱落,抗划伤强.ITO膜能抗强碱,但易被酸腐蚀.•光刻胶性能的主要指针.•感亮度.光刻胶对光敏感的性能.•所以说,对于固定光强的曝光机,光刻胶的感亮度越高,则曝光时间越短,反之,则差.•分辩率.光刻精度的标志.它不仅与光刻胶本身有关.还与光刻工艺条件和操作技术等因素有关.•抗蚀性只是在针孔密度小,粘附性能良好的情况下,才能有较强的抗酸.碱能力.接上•粘附力光刻胶与ITO面之间沾附的牢固程度也直接影响光刻后的精度,光刻胶的沾附力与光胶本身性质有关.而且与玻璃面有密切关系.平整.清洁.干燥.无油质污染的表面有利于光刻胶的粘附.此外.光刻胶的配比,前烘条件,显影液配方因素有关.•稳定性–光刻胶在常温和暗房内(黄色光).光刻胶不发生暗反应.•针孔–视其光刻胶膜上针孔形成密度尽可能低,它将直接影响光胶质量.•粘度和含固率–光刻胶越浓,粘度就越大,涂膜就越厚,反之.就越薄,因此.我们常采用改变光胶浓度调节粘度,控制膜厚度.例中:光刻细小图表时,为了提高分辩率,胶层相对薄些故采用浓度较稀的光刻胶.•温度高.固含率低.粘度变小,膜薄,反之则厚.•光刻胶的分类•负性胶–在衬底表面将得到与光刻掩盖版遮光图形完全相反的图形(不适用LCD制造业).•正性胶–这种胶在曝光前对某些溶剂是不可溶的,而曝光后就变成可溶性,能与掩模遮光图形相同的图案.接上•此胶分辨率高,边缘整齐,边缘陡度好,以及反刻时易对准等优点,较易显影,常被LCD制造业采用.•正性胶经强紫外线照射后,发生光合反应,经光照后的生成物能溶解于弱碱性水溶液中,而显示出正图形.主要不良影响：工位缺陷不良原因后制程产生不良PR涂布PR脏点1.玻璃表面脏物2.涂胶轮本身脏3.环境太差（粒子浓度偏高）4.PR被污染针孔、开路PR空洞1.玻璃表面有水汽和油污2.涂胶轮上有脏物和凸点针孔、开路亮线1.涂胶轮浸润不够2.玻璃清洗不干凈3.水汽未干针孔、开路PR不均(厚薄不均)1.涂胶轮与匀均胶轮间的间隙不一致2.玻璃表面局部有水汽、油污）3.胶的粘度大小直接与PR膜的厚薄有关开路与短路，对下一工序造成显影、蚀刻工位的不足、过度胶泡1.PR中本身有汽泡2.搅拌中产生汽泡3.涂胶轮上有亮线短路、针孔主要不良影响：工位缺陷不良原因后制程产生不良显影工位显影不足A．喷淋支数少B．蚀刻液温度低于工艺要求C．浓度低于工艺要求D．传送速度太快短路、字体变形显影过度A、喷淋太支数太多B、蚀度温度、浓度高出工艺要求C、传送太慢开路、针孔多余物A、模板本身多余物B、模板上有脏物C、环境太差（粒子浓度偏高）字体变形、多点针孔A．模板上本身有针孔、脏物B．涂胶线脏点、空洞、连线针孔缺口A．模板上本身有缺口、脏物B．涂胶脏点空洞、连线字体变形、缺口短路A．模板刮花、联机、脏物B．曝光机内环境太脏C．显影、曝光不足D．显影水洗冲洗不干凈刮花A、模板刮花；B、机台运行不正常、刮花开路断线A、模板本身脏物；B、机台刮花、显影、曝光过度开路玻璃寸法A、真空不稳定；B、调试不当直接影响PI、丝印定位不准主要不良影响：工位缺陷不良原因后制程产生不良蚀刻针孔、缺口、断线、短路、多余物同显影同显影蚀刻不足1、喷淋支数太少2、蚀刻温度、浓度太低3、传送速度太快短路、多余物蚀刻过度1、喷淋支数太多2、蚀刻温度、浓度太高3、传送速度太快开路主要不良影响：工位缺陷不良原因后制程产生不良剥膜残留PR1．剥膜浓太低2．传送太快3．坚膜温度过高PI脏点脏物1．DI水太脏2．滤芯效果太差3．机台内未定期清洗PI脏点水未干1．吹干将置风量太小2．烘干温度太低PI空洞、PI涂覆不干共同进步